特許
J-GLOBAL ID：200903059948704013

位相シフトマスクの位相差の調整方法

発明者：
林 昌志

林 昌志 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-156505
公開番号（公開出願番号）：特開2001-337438
出願日： 2000年05月26日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：
【要約】【課題】位相シフトマスクに使用される材料(透明基板及び位相シフタ膜)及びエッチング薬液を適宜選定することにより、位相シフトマスクの位相差を精度良く調整する方法を提供することを目的とする。【解決手段】透明基板11と位相シフタ膜12が合成石英ガラスとモリブデンシリサイドの酸化物あるいはモリブデンシリサイドの酸化窒化物の組み合わせからなる位相シフトマスク10を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の強アルカリの水溶液からなるエッチング薬液を用いてエッチングして位相差調整を行う。
請求項（抜粋）：
透明基板上に露光光の位相を反転する位相シフタ膜が形成されてなる位相シフトマスクについて、前記透明基板のみを透過する前記露光光の位相と、透明基板と位相シフタ膜を透過する前記露光光の位相の差(以下、簡略して位相差という)を調整することを目的とする位相シフトマスクの位相差の調整方法において、前記位相シフトマスクを薬液に浸漬して、前記透明基板あるいは/および前記位相シフタ膜(透明基板と位相シフタ膜の両者あるいは少なくともいずれか一方)をエッチングすることにより位相差を調整することを特徴とする位相シフトマスクの位相差の調整方法。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P
Fターム (4件)：
2H095BA01 ,  2H095BB03 ,  2H095BB15 ,  2H095BB31
引用特許：
審査官引用 (4件)
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