レーザ偏光制御

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：社本一夫 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-558591
公開番号（公開出願番号）：特表2002-520643
出願日： 1999年06月22日
公開日（公表日）： 2002年07月09日
要約：

【要約】レーザ偏光制御装置は、液晶可変リターダのような偏光変更装置(24)、及び制御器(18)を含む。偏光変更装置は、レーザ・ビーム(12)を受け取り、そのビームの偏光を変更する。制御器は、レーザ・ビームにより処理されるべき構造体のアライメントに基づくレーザ・ビームの偏光の変更を制御するため、偏光変更装置への入力を調整する。偏光変更装置は、その偏光変更装置により受け取られたレーザ・ビームを生成でレーザ処理システムあって、変更されたレーザ・ビームを、そのレーザ・ビームにより処理されるべき構造体を含む加工物上に集束させるレーザ処理システムの中に組み込むように構成されている。

請求項（抜粋）：

レーザ・ビームを受け取り且つレーザ・ビームの偏光を変更するよう構成された偏光変更装置と、前記偏光変更装置に接続された制御器であって、レーザ・ビームにより処理されるべき構造体のアライメントに基づいてレーザ・ビームの偏光の変更を制御するため、前記偏光変更装置への入力を調整するよう構成された制御器とを備え、前記偏光変更装置は、その偏光変更装置により受け取られるレーザ・ビームを生成するレーザ処理システムであって、前記偏光変更装置により変更されたレーザ・ビームを、当該レーザ・ビームにより処理されるべき構造体を含む加工物上へ集束させるレーザ処理システムの中に組み込むよう構成されているレーザ偏光制御装置。

IPC (4件)：

G02B 27/28 , B23K 26/00 , H01S 3/10 , B23K101:40

FI (4件)：

G02B 27/28 Z , B23K 26/00 C , H01S 3/10 Z , B23K101:40

Fターム (15件)：

2H099AA17 , 2H099BA17 , 2H099CA08 , 2H099DA09 , 4E068AC00 , 4E068CB10 , 4E068CD05 , 4E068DA09 , 5F072AB01 , 5F072JJ20 , 5F072KK15 , 5F072KK30 , 5F072PP07 , 5F072SS06 , 5F072YY08

引用特許：

審査官引用 (5件)

レーザ加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-331458 出願人：株式会社ニコン
旋光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-013275 出願人：エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション
ダムバー加工装置及びダムバー加工方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-236724 出願人：日立建機株式会社

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