特許
J-GLOBAL ID：200903060212805775
気化器及びそれを用いた各種装置並びに気化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-075263
公開番号（公開出願番号）：特開2003-268552
出願日： 2002年03月18日
公開日（公表日）： 2003年09月25日
要約：
【要約】【課題】目詰まりなどを起こすことがなく長期使用が可能であり、かつ、反応部への安定的な原料供給が可能な気化器を提供すること。【解決手段】分散部本体1の内部に形成されたガス通路2と、ガス通路2に加圧されたキャリアガス3を導入するガス導入口4と、ガス通路2を通過するキャリアガスに原料溶液5を供給するための手段6と、分散された原料溶液5を含むキャリアガスを気化部22に送るためのガス出口7と、ガス通路2内を流れるを冷却する手段18と、を有する分散部8と、装置の反応部と分散部8のガス出口7に接続された気化管20と、気化管20を加熱するヒータ21と、を有し、原料溶液が分散されたキャリアガスを加熱・気化させる気化部22と、を有し、反応部の圧力は、気化管の圧力より低く設定されるようにしたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
?@内部に形成されたガス通路と、該ガス通路にキャリアガスを導入するためのガス導入口と、該ガス通路に原料溶液を供給しするための手段と、原料溶液を含むキャリアガスを気化部に送るためのガス出口と、該ガス通路を冷却するための手段と、を有する分散部と;?A一端が成膜その他の各種装置の反応部に接続され、他端が前記ガス出口に接続された気化管と、該気化管を加熱するための加熱手段と、を有し、前記分散部から送られてきた、霧化された原料溶液を含むキャリアガスを加熱して気化させるための気化部と;を有し、反応部の圧力は、気化管の圧力より低く設定されるようにしたことを特徴とする気化器。
IPC (4件)：
C23C 16/448
, C23C 16/52
, H01L 21/205
, H01L 21/31
C23C 16/448
, C23C 16/52
, H01L 21/205
, H01L 21/31 B
4K030AA11
, 4K030AA14
, 4K030AA18
, 4K030EA01
, 4K030EA03
, 4K030JA05
, 4K030JA09
, 4K030JA12
, 4K030KA25
, 4K030KA46
, 5F045AA04
, 5F045AA06
, 5F045AB31
, 5F045AF10
, 5F045EE02
