特許
J-GLOBAL ID：200903060324178820

リグノフェノールの製造方法

発明者：
舩岡 正光

舩岡 正光 について

, 
青▲柳▼ 充

青▲柳▼ 充 について


出願人/特許権者：
独立行政法人科学技術振興機構

独立行政法人科学技術振興機構 について


代理人 (1件)： 平山 一幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-052107
公開番号（公開出願番号）：特開2008-214231
出願日： 2007年03月01日
公開日（公表日）： 2008年09月18日
要約：
【課題】リグノフェノール及びその誘導体を、その用途に応じた分子量に分画することができる、リグノフェノールの製造方法を提供する。【解決手段】出発原料となるリグノフェノール1を親溶媒に溶解し、リグノフェノールの親溶媒溶液とする工程と、リグノフェノールの親溶媒溶液を貧溶媒中に混合してリグノフェノール沈殿物2を生成する工程と、を備え、貧溶媒を変えることによりリグノフェノール沈殿物2の分子量を制御することができる。さらに、リグノフェノール沈殿物を回収した後の貧溶媒溶へリグノフェノールと金属化合物とからなる錯体様複合体を加え、残存するリグノフェノールを回収することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
出発原料となるリグノフェノールを親溶媒に溶解し、リグノフェノールの親溶媒溶液とする工程と、 上記リグノフェノールの親溶媒溶液を貧溶媒中に混合してリグノフェノール沈殿物を生成する工程と、を備え、 上記貧溶媒を変えることにより上記リグノフェノール沈殿物の分子量を制御することを特徴とする、リグノフェノールの製造方法。
IPC (1件)：
C07G 1/00
FI (1件)：
C07G1/00
Fターム (8件)：
4H055AA02 ,  4H055AB82 ,  4H055AD22 ,  4H055BA01 ,  4H055CA60 ,  4H055DA12 ,  4H055DA13 ,  4H055DA82
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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引用文献：
出願人引用 (3件)
  • 化学工学会年会研究発表講演要旨集, 2006, Vol.71st, P.609
  • 第14回ポリマー材料フォーラム要旨集, 2005, P.195
  • 日本化学会講演予稿集, 2006, Vol.86th, No.2, P.817
審査官引用 (3件)
  • 化学工学会年会研究発表講演要旨集, 2006, Vol.71st, P.609
  • 第14回ポリマー材料フォーラム要旨集, 2005, P.195
  • 日本化学会講演予稿集, 2006, Vol.86th, No.2, P.817

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