特許
J-GLOBAL ID：200903060436958860

給水システム

発明者：
米田 剛

米田 剛 について

, 
真鍋 敦行

真鍋 敦行 について

, 
渡邉 隼人

渡邉 隼人 について


出願人/特許権者：
三浦工業株式会社

三浦工業株式会社 について


代理人 (3件)： 大塚 明博 ,  小林 保 ,  小島 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-103269
公開番号（公開出願番号）：特開2005-288219
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：
【課題】 熱機器、水処理機器等の機器内へ供給された給水のpHの低下による腐食を抑制することができる給水システムを提供する。【解決手段】 熱機器としてのボイラ2へ給水を供給するための給水システム3であって、給水を流す給水ライン4と、給水ライン4に設けられ、ボイラ2の腐食を引き起こす腐食促進成分を捕捉する濾過部材により濾過処理する濾過処理部8と、濾過処理部8の上流側の給水ライン4を流れる給水を濾過処理部8の下流側の給水ライン4へバイパスさせるバイパスライン10と、バイパスライン10に設けられた開閉弁11と、濾過処理部8の下流側を流れボイラ2へと供給される給水が所定のMアルカリ度となるよう開閉弁11を開閉制御する制御部14とを備えて構成した。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
機器へ給水を供給するための給水システムであって、 前記給水を流す給水ラインと、 該給水ラインに設けられた濾過処理部と、 該濾過処理部をバイパスするバイパスラインと、 該バイパスラインに設けられた開閉弁と、 前記濾過処理部の下流側を流れる給水が所定のMアルカリ度となるよう前記開閉弁を開閉制御する制御部と、 を備えて構成する ことを特徴とする給水システム。
IPC (5件)：
C02F1/44 ,  B01D19/00 ,  B01D61/20 ,  C02F1/20 ,  C23F14/00
FI (6件)：
C02F1/44 E ,  B01D19/00 H ,  B01D19/00 101 ,  B01D61/20 ,  C02F1/20 A ,  C23F14/00
Fターム (39件)：
4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006GA32 ,  4D006JA59Z ,  4D006KA01 ,  4D006KA16 ,  4D006KA33 ,  4D006KA52 ,  4D006KA57 ,  4D006KA72 ,  4D006KB11 ,  4D006KB12 ,  4D006KB14 ,  4D006KB17 ,  4D006KD26 ,  4D006KE19P ,  4D006KE22Q ,  4D006KE30Q ,  4D006MC45 ,  4D006MC54 ,  4D006PB02 ,  4D006PB06 ,  4D006PC31 ,  4D011AA17 ,  4D011AD03 ,  4D037AA08 ,  4D037BA23 ,  4D037BB07 ,  4D037CA01 ,  4D037CA02 ,  4D037CA03 ,  4D037CA15 ,  4K062AA10 ,  4K062BA11 ,  4K062CA10 ,  4K062EA08 ,  4K062FA04 ,  4K062FA06 ,  4K062GA01
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 純水製造装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-057510   出願人：三浦工業株式会社
審査官引用 (9件)
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