特許

J-GLOBAL ID：200903060502514014

可視スペクトルの光子を吸収するよう改質された光触媒特性を伴うフィルムを有する、ガラス基材のような、基材

発明者： ナドー,ニコラ ,  ラブルース,ロラン ,  ギュノー,レティシア
出願人/特許権者： サン-ゴバン グラス フランス
代理人 (4件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  堂垣 泰雄
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-506818
公開番号（公開出願番号）：特表2007-532290
出願日： 2005年04月07日
公開日（公表日）： 2007年11月15日
要約：

本発明は二酸化チタン(TiO2)をベースとし、そしてUV範囲、特に長波長UVA範囲の光子を吸収可能である光触媒特性及び汚れ防止特性を有する層の改質に関係し、可視スペクトルの光子も吸収する特性を提供するために、前記TiO2系の層は基材に直接的に適用されるかまたは少なくとも一の機能副層の挿入を伴って適用される。本発明は、望ましい可視光の光子吸収特性を得るために、TiO2系の層は窒素又は少なくとも一の還元ガスと窒素を含む雰囲気中で十分な時間熱処理にさらされることを特徴としており、前記基材及び必要であれば前記副層はこの熱処理に耐える能力のために選択されている。

請求項（抜粋）：

UV、特に長波長UVA、の領域の光子を吸収することが可能であり、光触媒性の汚れ防止特性を伴う、二酸化チタン(TiO2)系フィルムを可視光の光子を吸収することも可能ならしめるように、改質する方法であって、該TiO2系フィルムは直接的に又は少なくとも一の機能性副フィルムの介在を伴って基材に適用されており、 該TiO2系フィルムが窒素雰囲気で又は窒素及び少なくとも一の還元ガスを含む雰囲気で、望ましい可視光での光子吸収特性を得るために十分な時間の間、熱処理にさらされることを特徴とし、該基材及び適切な場合には該副フィルムが該熱処理に耐えることが可能であるように選択されている、フィルムの改質方法。

IPC (9件)：

B01J 35/02 ,  C03C 17/23 ,  C03C 17/34 ,  B01J 37/08 ,  B01J 37/02 ,  B01J 35/06 ,  B01D 53/86 ,  B32B 9/04 ,  B32B 17/06

FI (11件)：

B01J35/02 J ,  C03C17/23 ,  C03C17/34 Z ,  B01J37/08 ,  B01J37/02 301P ,  B01J35/06 A ,  B01J35/06 K ,  B01J35/06 J ,  B01D53/36 J ,  B32B9/04 ,  B32B17/06

Fターム (72件)：

4D048AA21 ,  4D048AA22 ,  4D048BA07X ,  4D048BA41X ,  4D048BB08 ,  4D048EA01 ,  4F100AA21A ,  4F100AG00B ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100GB07 ,  4F100GB31 ,  4F100GB32 ,  4F100GB90 ,  4G059AA01 ,  4G059AB09 ,  4G059AC30 ,  4G059EA04 ,  4G059EA05 ,  4G059EB01 ,  4G059EB04 ,  4G059EB05 ,  4G059GA01 ,  4G059GA04 ,  4G059GA12 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01A ,  4G169BA02B ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA14A ,  4G169BA14B ,  4G169BA21C ,  4G169BA48A ,  4G169BB01C ,  4G169BB02B ,  4G169BC16B ,  4G169BD01C ,  4G169BD06C ,  4G169BE01C ,  4G169CA01 ,  4G169CD10 ,  4G169DA05 ,  4G169EA03X ,  4G169EA03Y ,  4G169EA08 ,  4G169EA09 ,  4G169EA10 ,  4G169EA11 ,  4G169EB15X ,  4G169EB15Y ,  4G169EC28 ,  4G169FA01 ,  4G169FB02 ,  4G169FB03 ,  4G169FB08 ,  4G169FB29 ,  4G169FC04 ,  4G169FC07 ,  4G169HA01 ,  4G169HA02 ,  4G169HA08 ,  4G169HC04 ,  4G169HC15 ,  4G169HD07 ,  4G169HD13 ,  4G169HD14 ,  4G169HE03 ,  4G169HE06 ,  4G169HE08 ,  4G169HF03

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 光触媒物質、光触媒体およびこれらの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-285938   出願人：株式会社豊田中央研究所
• 結晶性酸化チタン薄膜の高速成膜方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-155844   出願人：東陶機器株式会社
• 少なくとも1層の光触媒層と該層のヘテロエピタキシャル成長のための下地層とを備えた基材、特にガラス基材
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2006-536150   出願人：サン-ゴバングラスフランス
• 光触媒膜付き基体およびその製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-569433   出願人：日本板硝子株式会社
• 基材上に酸化チタン光触媒薄膜を形成する方法および積層体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-186058   出願人：富士ゼロックス株式会社