特許

J-GLOBAL ID：200903060508288113

電子材料用洗浄液および洗浄方法

発明者： 榛原 照男 ,  森 良弘 ,  毛利 敬史
出願人/特許権者： ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
代理人 (4件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-277936
公開番号（公開出願番号）：特開2008-182188
出願日： 2007年10月25日
公開日（公表日）： 2008年08月07日
要約：

【課題】本発明は、電子材料、特にシリコンウエハ用の洗浄液およびそれを用いた洗浄方法に関する。【解決手段】本発明にかかる洗浄方法は、超純水あるいは水素水を原料水とし、かつ水素マイクロバブルの存在下で、超音波照射を組合わせた洗浄液を用いることを特徴とする。【効果】本発明の方法は、ウエハ表面のパーティクル成分等を効率的に洗浄除去し、再汚染を防止することが可能となる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

水素ガスによるマイクロバブルを含み、かつ超音波振動を付与された水系液体であることを特徴とする、電子材料用洗浄液。

IPC (1件)：

H01L 21/304

FI (4件)：

H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 647B ,  H01L21/304 647A ,  H01L21/304 642E

Fターム (22件)：

5F157AA22 ,  5F157AA23 ,  5F157AA28 ,  5F157AA73 ,  5F157AA96 ,  5F157BB73 ,  5F157BC53 ,  5F157BC54 ,  5F157BD02 ,  5F157BD25 ,  5F157BD54 ,  5F157BE12 ,  5F157BE23 ,  5F157BE32 ,  5F157BE33 ,  5F157BE35 ,  5F157BF37 ,  5F157BF39 ,  5F157CC02 ,  5F157CF06 ,  5F157DB03 ,  5F157DB18

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 洗浄方法および洗浄水の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-279823   出願人：松下電器産業株式会社
• パーティクル除去方法および基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-129606   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 洗浄装置および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-199152   出願人：日立プラント建設株式会社
• 洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-174302   出願人：栗田工業株式会社