特許
J-GLOBAL ID：200903060802435221

電子写真プロセス

発明者：
新美 達也

新美 達也 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 武井 秀彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-087240
公開番号（公開出願番号）：特開平10-268538
出願日： 1997年03月24日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 電子写真プロセスの繰り返し使用における感光体の露光部電位の上昇が少なく、それに伴った異常画像の発生の少ない電子写真プロセスを提供することにある。【解決手段】 感光体の回りに、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、定着手段、クリーニング手段、及び光除電手段を具備した電子写真プロセスにおいて、該電子写真プロセスに用いられる電子写真感光体の感光層に少なくとも下記(1)式で表される電荷発生物質を含有し、かつ光除電に用いられる光が550nm以上の波長成分のみであることを特徴とする電子写真プロセス。式中、Cp1、Cp2はカップラー残基を表わし、下記(2)式で表わされる。(2)を取り入れた(1)の具体例としては、
請求項（抜粋）：
感光体の回りに、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、定着手段、クリーニング手段、及び光除電手段を具備した電子写真プロセスにおいて、該電子写真プロセスに用いられる電子写真感光体の感光層に少なくとも下記(1)式で表される電荷発生物質を含有し、かつ光除電に用いられる光が550nm以上の波長成分のみであることを特徴とする電子写真プロセス。【化1】式中、Cp1、Cp2はカップラー残基を表わし、同一でも異なっていてもよい。R201、R202はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基のいずれかを表わし、同一でも異なっていてもよい。また、Cp1、Cp2は下記(2)式で表わされ、【化2】式中、R203は、水素原子、メチル基、エチル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基を表わす。R204、R205、R206、R207、R208はそれぞれ、水素原子、ニトロ基、シアノ基;フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子;トリフルオロメチル基、メチル基、エチル基等のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基、水酸基を表わし、Zは置換若しくは無置換の芳香族炭素環又は置換若しくは無置換の芳香族複素環を構成するのに必要な原子群を表わす。
IPC (20件)：
G03G 5/06 348 ,  G03G 5/06 360 ,  C08G 64/16 ,  G03G 5/07 ,  G03G 21/08 ,  C07D209/48 ,  C07D209/82 ,  C07D209/86 ,  C07D209/88 ,  C07D213/53 ,  C07D221/14 ,  C07D231/26 ,  C07D231/56 ,  C07D235/12 ,  C07D235/26 ,  C07D235/28 ,  C07D307/52 ,  C07D307/91 ,  C07D333/22 ,  C07D471/04 108
FI (20件)：
G03G 5/06 348 ,  G03G 5/06 360 C ,  C08G 64/16 ,  G03G 5/07 ,  C07D209/82 ,  C07D209/86 ,  C07D209/88 ,  C07D213/53 ,  C07D221/14 ,  C07D231/26 ,  C07D231/56 E ,  C07D235/12 ,  C07D235/26 B ,  C07D235/28 B ,  C07D307/52 ,  C07D307/91 ,  C07D333/22 ,  C07D471/04 108 A ,  G03G 21/00 342 ,  C07D209/48 Z
引用特許：
審査官引用 (19件)
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