特許
J-GLOBAL ID:200903060920356778
半導体発光ダイオード及びその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
八田 幹雄
, 奈良 泰男
, 齋藤 悦子
, 宇谷 勝幸
, 藤井 敏史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-113209
公開番号(公開出願番号):特開2004-327980
出願日: 2004年04月07日
公開日(公表日): 2004年11月18日
要約:
【課題】 半導体発光ダイオード及びその製造方法を提供する。【解決手段】 基板、この基板上に順次に設けられたn型半導体層、活性層、p型半導体層、p型半導体層上に形成される第1金属層とこの第1金属層上に形成されて活性層から発生した光を反射させる第2金属層とを備えるp型電極と、を含む半導体発光ダイオードである。本発明による半導体発光ダイオードによれば、p型半導体層との接触抵抗が低いと同時に光反射率が高いp型電極を備えることによって動作電圧を低め、かつ光抽出効率を高めうる。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
基板と、この基板上に順次に設けられたn型半導体層、活性層、p型半導体層と、
前記p型半導体層上に形成される第1金属層と、前記第1金属層上に形成されて前記活性層から発生した光を反射させる第2金属層とを備えるp型電極と、を含む半導体発光ダイオード。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (12件):
5F041AA03
, 5F041CA05
, 5F041CA13
, 5F041CA34
, 5F041CA40
, 5F041CA46
, 5F041CA83
, 5F041CA92
, 5F041CA94
, 5F041FF01
, 5F041FF11
, 5F041FF14
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
-
複合発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-027451
出願人:松下電器産業株式会社
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発光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-299219
出願人:日亜化学工業株式会社
-
窒化物半導体へのP型オーム性接合形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-367869
出願人:日本電信電話株式会社
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