真空処理室用表面構造

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：北村欣一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-297902
公開番号（公開出願番号）：特開2002-105618
出願日： 2000年09月29日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
要約：

【要約】【課題】ガス放出速度の小さい溶射膜からなる真空処理室用の表面構造を提供すること。【解決手段】真空処理室の真空中へ露出されるガラス、セラミックス、金属等の部材の表面に、該ガラス、セラミックス、金属等の部材を不活性ガス雰囲気中に位置させて吹き付けガスに不活性ガスを用いた金属のアーク溶射膜を設けた。不活性ガスをアルゴンガスとし、ガラス、セラミックス、金属等の部材には真空容器などの真空装置用部品が適用される。

請求項（抜粋）：

真空処理室の真空中へ露出されるガラス、セラミックス、金属等の部材の表面に、該ガラス、セラミックス、金属等の部材を不活性ガス雰囲気中に位置させて吹き付けガスに不活性ガスを用いた金属のアーク溶射膜を設けたことを特徴とする真空処理室用表面構造。

IPC (5件)：

C23C 4/12 , C23C 14/00 , C23C 16/44 , H01L 21/203 , H01L 21/205

FI (5件)：

C23C 4/12 , C23C 14/00 B , C23C 16/44 J , H01L 21/203 S , H01L 21/205

Fターム (23件)：

4K029BD01 , 4K029BD11 , 4K029CA05 , 4K029DA01 , 4K029JA01 , 4K030GA02 , 4K030KA08 , 4K030KA47 , 4K031AA01 , 4K031AA08 , 4K031AB11 , 4K031CA02 , 4K031CB39 , 4K031CB41 , 4K031CB52 , 4K031DA03 , 4K031EA10 , 5F045BB15 , 5F045EB03 , 5F045EC05 , 5F103AA08 , 5F103BB46 , 5F103RR10

引用特許：

審査官引用 (11件)

真空成膜装置用部品とそれを用いた真空成膜装置、およびターゲット、バッキングプレート
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-086487 出願人：株式会社東芝
特開昭64-025964
特開平3-031466

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