特許
J-GLOBAL ID:200903061041019713
プラズマ放電処理装置及びプラズマ放電処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-002272
公開番号(公開出願番号):特開2003-201568
出願日: 2002年01月09日
公開日(公表日): 2003年07月18日
要約:
【要約】【課題】 大気圧プラズマ放電処理を、処理温度が300°Cの高温でも、また放電の高出力の状態でも、長期連続運転にも耐えることが出来る新規な電極を有する装置を提供し、基材への薄膜の形成が高速度、高性能で行うことが出来る大気圧プラズマ放電処理装置及び方法を提供する。【解決手段】 大気圧もしくはその近傍の圧力下、対向電極間で高周波電圧を印加して放電させることにより、電極間の反応性ガス及び希ガスを含有する反応ガスをプラズマ状態とし、基材を該プラズマ状態の反応ガスにさらして、該基材に薄膜を形成するプラズマ放電処理装置の電極の金属母材を70質量%以上のチタンを含有するチタン合金またはチタン金属とする。
請求項(抜粋):
大気圧もしくはその近傍の圧力下、印加電極とアース電極とで対向電極が形成されている電極間で高周波電圧を印加して放電させることにより、該対向電極間にある反応性ガス及び希ガスを含有する反応ガスをプラズマ状態とし、基材を該プラズマ状態の反応ガスにさらすことによって、該基材に薄膜を形成するプラズマ放電処理装置であって、該対向する電極の金属母材が70質量%以上のチタンを含有するチタン合金またはチタン金属であることを特徴とするプラズマ放電処理装置。
IPC (3件):
C23C 16/507
, B01J 19/08
, H05H 1/46
FI (3件):
C23C 16/507
, B01J 19/08 H
, H05H 1/46 M
Fターム (24件):
4G075AA24
, 4G075AA30
, 4G075AA63
, 4G075BC04
, 4G075CA15
, 4G075DA01
, 4G075EB41
, 4G075EC21
, 4G075ED04
, 4G075ED09
, 4G075FB02
, 4G075FB04
, 4G075FC15
, 4K030CA07
, 4K030CA17
, 4K030FA03
, 4K030GA14
, 4K030JA09
, 4K030JA10
, 4K030KA14
, 4K030KA16
, 4K030KA22
, 4K030KA46
, 4K030KA47
引用特許:
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