特許

J-GLOBAL ID：200903061047552065

光酸発生剤のブレンドを含むフォトレジスト組成物

発明者： ジェームズ・エフ・キャメロン ,  ジェームズ・マイケル・モリ ,  ジョージ・ダブリュー・オースラ ,  ジェームズ・ダブリュー・サッカレー
出願人/特許権者： シップレーカンパニー エル エル シー
代理人 (1件)： 千田 稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-042690
公開番号（公開出願番号）：特開2000-241965
出願日： 2000年02月21日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】樹脂バインダーおよび光酸発生剤のブレンドを含む新しいフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】樹脂バインダーおよび、組成物の露光されたコーティング層を現像することができるのに十分な量の光酸発生化合物の混合物を含み、該光酸発生化合物の混合物は、第1の光酸発生剤および第2の光酸発生剤を含み、第1および第2の光酸発生剤は、光活性化されると、少なくとも約0.5だけpKa値が異なる第1の光酸および第2の光酸をそれぞれ発生するフォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

樹脂バインダーおよび、組成物の露光されたコーティング層を現像することができるのに十分な量の光酸発生化合物の混合物を含み、該光酸発生化合物の混合物は、第1の光酸発生剤および第2の光酸発生剤を含み、第1および第2の光酸発生剤は、光活性化されると、少なくとも約0.5だけpKa値が異なる第1の光酸および第2の光酸をそれぞれ発生するフォトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-074629   出願人：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• 新規スルホニウム塩及び化学増幅ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-307362   出願人：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-250518   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-187223   出願人：ジェイエスアール株式会社