特許
J-GLOBAL ID：200903061086879489
ハーフトーン位相シフトマスク及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小堀 益
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-348185
公開番号（公開出願番号）：特開平9-222719
出願日： 1996年12月26日
公開日（公表日）： 1997年08月26日
要約：
【要約】【課題】 ハーフトーン位相シフトマスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】 露出光に対して透明な基板21と、前記透明な基板21上に形成された位相シフターパターン23Aと、前記透明な基板21を蝕刻して形成した位相シフト用の溝25とを含むことにより、従来のハーフトーン位相シフトマスクに比べて透過率が向上され、位相シフト用溝25の表面も均一になる。よって、短波長を用いコントラストに優れた微細パターンを形成することができる。
請求項（抜粋）：
露出光に対して透明な基板と、前記透明な基板上に形成された位相シフターパターンと、前記透明な基板を蝕刻して形成した位相シフト用溝とを含むことを特徴とするハーフトーン位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
