汚染地盤や廃棄物埋立地盤の浄化方法およびその浄化装置

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：一色健輔 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-331912
公開番号（公開出願番号）：特開2001-145872
出願日： 1999年11月22日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：

【要約】【課題】浄化促進成分を超高圧で短時間の間隔でパルス状になして間欠的に汚染地盤(廃棄物埋立地盤をも含む)中に注入し、該浄化促進成分を爆発的に吹き込むことにより、この浄化促進成分をより遠くかつより広範囲に到達させて汚染地盤の浄化能力を大幅に向上させる。【解決手段】汚染地盤12に挿入した注入井14に超高圧をもって浄化促進成分を短時間の間隔でパルス状にして間欠的に供給し、この注入井14の噴出口14aから超高圧の浄化促進成分を所定の間欠タイミングをもって該汚染地盤12中に注入する。これによって浄化促進成分をラビリンス効果をもって爆発的に汚染地盤12中に吹き込み、浄化促進成分をより遠くかつより広範囲に到達させる。

請求項（抜粋）：

汚染地盤や廃棄物埋立地盤に挿入した注入井に超高圧をもって浄化促進成分を短時間の間隔でパルス状にして間欠的に供給し、この注入井の噴出口から超高圧の浄化促進成分を該汚染地盤や廃棄物埋立地盤中に吹き込むことを特徴とする汚染地盤の浄化方法。

IPC (2件)：

B09C 1/04 ZAB , B09C 1/10 ZAB

FI (2件)：

B09B 5/00 ZAB S , B09B 3/00 ZAB E

Fターム (9件)：

4D004AA41 , 4D004AC07 , 4D004CA18 , 4D004CA34 , 4D004CA36 , 4D004CA50 , 4D004CC02 , 4D004CC11 , 4D004CC20

引用特許：

審査官引用 (6件)

汚染土壌、汚染地下水の浄化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-248218 出願人：キヤノン株式会社
汚染土壌の浄化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-078963 出願人：キヤノン株式会社, ライト工業株式会社
汚染土壌・汚染地下水の浄化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-217283 出願人：キヤノン株式会社

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