特許

J-GLOBAL ID：200903061146965711

光測長器、光ディスク原盤露光装置、及び加工装置

発明者： 宮田 弘幸
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 舘野 千惠子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-116426
公開番号（公開出願番号）：特開2006-292642
出願日： 2005年04月14日
公開日（公表日）： 2006年10月26日
要約：

【課題】 光測長器で円筒面など一方向に曲率を有する曲面の変位測定を行う場合に、被測定面に存在する微細な凹凸の影響を受けずに、精度よく測定を行うことができるようにする。【解決手段】 レーザー光源1から出射するビームのスポット径を変更するスポット径調整手段を備えている。したがって、干渉計2から出射され、対物レンズ光学系4により集光される集光ビームは、被測定物体5の表面に大きさ可変な集光スポットPとして照射される。これにより、集光スポットPの大きさを集光スポットPが被測定物体を走査する際に横断する傷等(符号Q)に対し十分大きく設定することで、変位測定信号の乱れを排除できる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

被測定物の移動量を測定する光測長器において、 光源と、 前記光源から出射された光を第1のビームと第2のビームに分割するとともに、参照ミラーから反射されて戻る前記第1のビームと被測定物から反射されて戻る前記第2のビームとを干渉するように合成して干渉光を出射する干渉計と、 前記干渉計から出射される前記第2のビームを集光して前記被測定物表面に照射し、当該被測定物の表面からの反射光を再び平行ビームにして前記干渉計に戻す光学系と、 前記干渉計から出射される干渉光の強度を検出して電気信号に変換する光検出器と、 前記光検出器の出力に基づき前記測定を行う測長回路と、 前記第2のビームの集光スポット径を調整するスポット径調整手段と、 を備えていることを特徴とする光測長器。

IPC (3件)：

G01B 11/00 ,  G01B 9/02 ,  G11B 7/26

FI (3件)：

G01B11/00 G ,  G01B9/02 ,  G11B7/26 501

Fターム (58件)：

2F064AA02 ,  2F064AA04 ,  2F064BB00 ,  2F064BB01 ,  2F064CC01 ,  2F064CC05 ,  2F064CC07 ,  2F064EE01 ,  2F064FF02 ,  2F064FF06 ,  2F064GG12 ,  2F064GG20 ,  2F064GG22 ,  2F064GG23 ,  2F064GG38 ,  2F064GG44 ,  2F064HH06 ,  2F064JJ05 ,  2F065AA03 ,  2F065AA09 ,  2F065AA20 ,  2F065AA23 ,  2F065BB05 ,  2F065BB08 ,  2F065BB16 ,  2F065DD03 ,  2F065DD04 ,  2F065EE00 ,  2F065FF41 ,  2F065FF49 ,  2F065FF51 ,  2F065FF52 ,  2F065FF55 ,  2F065GG04 ,  2F065GG05 ,  2F065GG23 ,  2F065HH03 ,  2F065HH04 ,  2F065HH14 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ16 ,  2F065LL04 ,  2F065LL06 ,  2F065LL09 ,  2F065LL12 ,  2F065LL13 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065LL46 ,  2F065NN20 ,  2F065PP02 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ27 ,  2F065UU01 ,  5D121BB21 ,  5D121BB38

引用特許：

出願人引用 (3件)

• レーザ干渉測長器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-095349   出願人：株式会社東芝
• レーザ測長計
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-170988   出願人：株式会社日立製作所
• レーザー測長器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-134321   出願人：株式会社リコー