特許
J-GLOBAL ID：200903061148748262

プラズマ処理装置

発明者：
八島 伸二

八島 伸二 について

, 
竹林 基成

竹林 基成 について


出願人/特許権者：
株式会社日立国際電気

株式会社日立国際電気 について


代理人 (1件)： 油井 透 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-084198
公開番号（公開出願番号）：特開2001-267098
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2001年09月28日
要約：
【要約】【課題】 複数の処理室に1つの高周波電源から均等に高周波電力を供給できるようにする。【解決手段】 1台の高周波電源5から給電線10を介して複数の処理室1、2に高周波電力を分配する。その給電線10から枝別れした分配線路7、8に可変コンデンサC1、C2を挿入する。各可変コンデンサC1、C2に流れる電流を検出する電流検出器CT1、CT2を設ける。電流検出器CT1、CT2の検出値の差を取り、その差がゼロになるように制御部16から制御出力を可変コンデンサC1、C2に出して、可変コンデンサC1、C2の値を制御する。
請求項（抜粋）：
1台の高周波電源から複数のプラズマ処理室に高周波電力を分配する分配線路に挿入される可変リアクタンスと、前記分配線路に流れる電流を測定する測定系と、前記測定電流に応じて前記可変リアクタンスを制御する制御系とを備えたプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H05H 1/46 ,  H01L 21/3065 ,  H02J 3/46
FI (4件)：
H05H 1/46 R ,  H05H 1/46 M ,  H02J 3/46 A ,  H01L 21/302 B
Fターム (4件)：
5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004CA03 ,  5G066LA10
引用特許：
審査官引用 (7件)
  • 特許第2673571号
  • プラズマ処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-222562   出願人：株式会社エフオーアイ, 株式会社神戸製鋼所
  • 半導体製造装置及び半導体製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-252702   出願人：九州日本電気株式会社
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM