特許
J-GLOBAL ID：200903061241047649
エッチング処理装置及び方法
出願人/特許権者：
東邦化成株式会社
東邦化成株式会社 について
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-125965
公開番号（公開出願番号）：特開2001-308062
出願日： 2000年04月26日
公開日（公表日）： 2001年11月02日
要約：
【要約】【課題】 処理槽内のエッチング液と処理槽外部の気体との接触を抑制することができ、エッチング液の濃度変化を大幅に低減させることができるエッチング処理装置及び方法を提供する。【解決手段】 蓋6A,6B,6C,6D,6E,6Fが閉位置から開位置に移動して処理槽1の開口1aが開かれているとき処理槽内の開口付近に不活性ガスを供給して不活性ガス雰囲気又は液面付近にガスカーテンを形成して処理槽内のエッチング液と処理槽外部の気体との接触を抑制する。
請求項（抜粋）：
エッチング液(4)によりウェハ(3)をエッチング処理するエッチング処理装置において、ウェハ出し入れ用開口(1a)を有して上記エッチング液を保持する処理槽(1)と、上記処理槽の上記開口を閉じる閉じ位置と上記開口を開ける開位置との間で移動する蓋(6A,6B,6C,6D,6E,6F)と、上記蓋により上記処理槽の上記開口が開かれているとき上記処理槽内の上記開口付近に不活性ガスを供給して不活性ガス雰囲気を形成して上記処理槽内の上記エッチング液と処理槽外部の気体との接触を抑制するガス供給装置とを備えるようにしたことを特徴とするエッチング処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (9件)：
4K057WG03
, 4K057WM03
, 4K057WM20
, 5F043EE03
, 5F043EE23
, 5F043EE24
, 5F043EE27
, 5F043EE40
, 5F043GG10
引用特許：
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