新規N-スルホニルオキシジカルボキシイミド化合物、光酸発生剤、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：小島隆司 , 重松沙織 , 小林克成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-364156
公開番号（公開出願番号）：特開2004-002291
出願日： 2002年12月16日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

【解決手段】下記一般式(1)で示されるN-スルホニルオキシジカルボキシイミド化合物。 (RはH、F、又はアルキル基又はアルコキシ基、nは0又は1、mは3〜11、rは0〜4、Gは単結合又は二重結合、pとqは独立にH又はアルキル基を示し、あるいはpとqとは互いに結合してそれらが結合している炭素原子を含めて脂肪族環状構造、複素環状構造又は芳香環構造を形成してもよい。)【効果】本発明の化合物を用いた化学増幅型レジスト材料は、解像性、焦点余裕度に優れ、PEDが長時間にわたる場合にも線幅変動、形状劣化が少ない。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるN-スルホニルオキシジカルボキシイミド化合物。

IPC (7件)：

C07D207/408 , C07D209/76 , C07D491/18 , C08F212/14 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027

FI (8件)：

C07D207/408 , C07D209/76 , C07D491/18 , C08F212/14 , G03F7/004 501 , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (64件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC07 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025CB55 , 2H025CC03 , 2H025CC20 , 4C050AA03 , 4C050BB04 , 4C050CC16 , 4C050DD07 , 4C050EE01 , 4C050FF01 , 4C050GG03 , 4C050HH01 , 4C069AC31 , 4C204CB19 , 4C204DB30 , 4C204EB03 , 4C204FB33 , 4C204GB01 , 4J100AB02Q , 4J100AB03Q , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AJ02P , 4J100AJ02Q , 4J100AL03Q , 4J100AL03R , 4J100AL08Q , 4J100AM43Q , 4J100AM43R , 4J100AR10Q , 4J100BA02H , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA06H , 4J100BA15H , 4J100BA20H , 4J100BC03Q , 4J100BC04H , 4J100BC04Q , 4J100BC08Q , 4J100BC09Q , 4J100BC53H , 4J100BC53Q , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100CA31 , 4J100DA28 , 4J100HA05 , 4J100HA19 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (7件)

ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-292715 出願人：富士写真フイルム株式会社
化学増幅ポジ型レジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-057719 出願人：信越化学工業株式会社
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-250518 出願人：富士写真フイルム株式会社

全件表示

引用文献：

審査官引用 (2件)

前のページに戻る