特許
J-GLOBAL ID:200903061271551945
ナノ多孔質材料の形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (4件):
曾我 道治
, 古川 秀利
, 鈴木 憲七
, 梶並 順
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-223251
公開番号(公開出願番号):特開2008-044825
出願日: 2006年08月18日
公開日(公表日): 2008年02月28日
要約:
【課題】細孔の規則性が極めて良好であり且つ比表面積が大きいナノ多孔質材料を大量合成する方法を提供すること。【解決手段】加水分解性を有する液体シリコン源を主原料とするナノ多孔質材料の形成方法であって、加水分解性を有する液体シリコン源、アルコール類、界面活性剤及び触媒を混合して原料混合溶液を調製する工程と、前記原料混合溶液中の加水分解性を有する液体シリコン源を部分的に加水分解・縮合させ、有機テンプレートとしての界面活性剤のミセルの周囲が部分加水分解縮合物により取り囲まれたゾルを得る工程と、前記ゾルの構造が保持される除去速度で液体成分を除去してゲルを得る工程と、前記ゲルを熱処理する工程とを含むことを特徴とするナノ多孔質材料の形成方法である。【選択図】図4
請求項(抜粋):
加水分解性を有する液体シリコン源を主原料とするナノ多孔質材料の形成方法であって、
加水分解性を有する液体シリコン源、アルコール類、界面活性剤及び触媒を混合して原料混合溶液を調製する工程と、
前記原料混合溶液中の加水分解性を有する液体シリコン源を部分的に加水分解・縮合させ、有機テンプレートとしての界面活性剤のミセルの周囲が部分加水分解縮合物により取り囲まれたゾルを得る工程と、
前記ゾルの構造が保持される除去速度で液体成分を除去してゲルを得る工程と、
前記ゲルを熱処理する工程と
を含むことを特徴とするナノ多孔質材料の形成方法。
IPC (7件):
C01B 37/02
, B01J 29/035
, B01J 32/00
, B01J 37/03
, B01J 37/08
, B01J 37/00
, B01J 37/32
FI (7件):
C01B37/02
, B01J29/035 Z
, B01J32/00
, B01J37/03 Z
, B01J37/08
, B01J37/00 F
, B01J37/32
Fターム (57件):
4G066AA22B
, 4G066AB06D
, 4G066AB09D
, 4G066AB18A
, 4G066AB21D
, 4G066BA23
, 4G066FA01
, 4G066FA11
, 4G066FA21
, 4G066FA33
, 4G066FA34
, 4G066FA36
, 4G073BA02
, 4G073BA04
, 4G073BA63
, 4G073BA69
, 4G073BB02
, 4G073BB15
, 4G073BB48
, 4G073BB56
, 4G073CZ54
, 4G073FB19
, 4G073FB41
, 4G073FC06
, 4G073FC17
, 4G073FC22
, 4G073FC25
, 4G073FD14
, 4G073FD15
, 4G073UA02
, 4G169AA01
, 4G169AA08
, 4G169BA02B
, 4G169BA15C
, 4G169BA21C
, 4G169BA41C
, 4G169BA42C
, 4G169BE17C
, 4G169BE32C
, 4G169BE33C
, 4G169DA05
, 4G169EC14Y
, 4G169FA01
, 4G169FB08
, 4G169FB57
, 4G169FB63
, 4G169FC02
, 4G169FC03
, 4G169FC06
, 4G169FC07
, 4G169FC09
, 4G169FC10
, 4G169ZA36B
, 4G169ZB01
, 4G169ZB02
, 4G169ZB08
, 4G169ZB09
引用特許:
出願人引用 (2件)
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特表平5-503499号公報(特許第3403402号明細書)
-
メソポーラスシリカおよびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-220190
出願人:日本化学工業株式会社
審査官引用 (3件)
引用文献:
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