特許
J-GLOBAL ID：200903026949332041

細孔を有する構造体の製造方法

発明者：
小川 美紀

小川 美紀 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-200895
公開番号（公開出願番号）：特開2002-241121
出願日： 2001年07月02日
公開日（公表日）： 2002年08月28日
要約：
【要約】【課題】 一軸配向性の細孔構造を有する連続性、均一性の高い細孔を有するシリカメソ構造体の製造方法を提供する。【解決手段】 ケイ素と界面活性剤とを含む溶液を、配向規制力を持った基板に接触させる工程と、前記溶液を接触させた前記基板を乾燥することにより、前記溶液に含まれる溶媒を乾燥させる工程とを有する細孔を有する構造体の製造方法。ケイ素アルコキシドを含む界面活性剤溶液を配向規制力を持った基板上に塗布する工程と、該基板を乾燥する工程とを含む細孔を有する構造体の製造方法。
請求項（抜粋）：
細孔を有する構造体の製造方法であって、ケイ素と界面活性剤とを含む溶液を、配向規制力を持った基板に接触させる工程と、前記溶液を接触させた前記基板を乾燥することにより、前記溶液に含まれる溶媒を乾燥させる工程とを有することを特徴とする細孔を有する構造体の製造方法。
IPC (4件)：
C01B 33/12 ,  B41J 2/01 ,  C01B 37/00 ,  C01B 39/00
FI (4件)：
C01B 33/12 C ,  C01B 37/00 ,  C01B 39/00 ,  B41J 3/04 101 Z
Fターム (26件)：
2C056FB01 ,  4G072AA25 ,  4G072BB04 ,  4G072BB07 ,  4G072BB09 ,  4G072BB11 ,  4G072BB15 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072KK17 ,  4G072LL03 ,  4G072MM01 ,  4G072MM31 ,  4G072NN21 ,  4G072UU11 ,  4G072UU15 ,  4G073BC02 ,  4G073BD11 ,  4G073BD18 ,  4G073BD23 ,  4G073CZ53 ,  4G073FB01 ,  4G073FD21 ,  4G073UA01 ,  4G073UA06
引用特許：
審査官引用 (7件)
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引用文献：
審査官引用 (5件)
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