成膜・熱処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅井章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-328284
公開番号（公開出願番号）：特開平9-143691
出願日： 1995年11月22日
公開日（公表日）： 1997年06月03日
要約：

【要約】【課題】同一処理容器内で成膜処理と熱処理を行なうようにした成膜・熱処理装置を提供する。【解決手段】真空引き可能になされた処理容器10と、この処理容器内に設けられて、被処理体Wを載置保持するための載置台12と、前記処理容器内に成膜用の処理ガスを供給するための処理ガス供給手段38と、前記被処理体に金属膜或いは金属含有膜を形成するために前記被処理体を成膜温度に加熱した後に前記膜に対して熱処理を施すために前記成膜温度よりも高い熱処理温度に前記被処理体を加熱する加熱ランプ手段28とを備えるように構成する。これにより、加熱ランプ手段の発熱量を切り替えることにより、成膜処理と熱処理とを同一処理容器内で連続的に行なう。

請求項（抜粋）：

真空引き可能になされた処理容器と、この処理容器内に設けられて、被処理体を載置保持するための載置台と、前記処理容器内に成膜用の処理ガスを供給するための処理ガス供給手段と、前記被処理体に金属膜或いは金属含有膜を形成するために前記被処理体を成膜温度に加熱した後に前記膜に対して熱処理を施すために前記成膜温度よりも高い熱処理温度に前記被処理体を加熱する加熱ランプ手段とを備えるように構成したことを特徴とする成膜・熱処理装置。

IPC (6件)：

C23C 14/24 , C23C 14/58 , H01L 21/205 , H01L 21/26 , H01L 21/285 , H01L 21/324

FI (6件)：

C23C 14/24 K , C23C 14/58 A , H01L 21/205 , H01L 21/285 C , H01L 21/324 D , H01L 21/26 L

引用特許：

審査官引用 (11件)

CVD装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-115918 出願人：株式会社日立製作所
特開平2-148723
特開平2-247384

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