特許

J-GLOBAL ID：200903061426116108

塗布膜形成方法および塗布装置

発明者： 高森 秀之
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-115553
公開番号（公開出願番号）：特開2001-000909
出願日： 2000年04月17日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：

【要約】【課題】 スクラッチパッドの生成を防止ないしはその程度を小さくして、基板での塗布液の塗り残しをなくすることができ、使用する塗布液の量を少なくすることができる塗布膜形成方法および塗布装置を提供すること。【解決手段】 レジスト液Rの外周囲の輪郭線の拡がり状態を検出センサー105により検出して、この輪郭線の拡がり状態に応じて、ウエハWの回転速度等を制御する。

請求項（抜粋）：

処理容器内に収容された基板の表面上に、塗布液供給ノズルから塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布膜形成方法であって、基板を載置台に載置して、基板を回転する工程と、前記塗布液供給ノズルから基板の略中央に塗布液を吐出して、回転する基板の略中央から外縁に向けて塗布液を拡散させる工程と、この拡散する塗布液の外周の輪郭線の拡がり状態を検出する工程と、前記検出された輪郭線の拡がり状態に基づいて、基板の回転速度、前記塗布液供給ノズルからの塗布液の吐出量、および前記塗布液供給ノズルからの塗布液の吐出速度のうち少なくとも1つを制御する工程とを具備することを特徴とする塗布膜形成方法。

IPC (7件)：

B05C 11/10 ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  B05D 7/00 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

B05C 11/10 ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 7/00 H ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 D

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 回転塗布装置及び回転塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-111749   出願人：富士通株式会社
• 塗布液塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-306925   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-164851   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (3件)

• 回転塗布装置及び回転塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-111749   出願人：富士通株式会社
• 塗布液塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-306925   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-164851   出願人：大日本スクリーン製造株式会社