感光性組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村稔 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-017570
公開番号（公開出願番号）：特開平5-216235
出願日： 1992年02月03日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】露光後のベークによる膜収縮が少なく、良好なプロファイルと高解像力を有する化学増幅系感光性組成物を提供する。【構成】式〔I〕、〔II〕等の溶解抑制剤、アルカリ可溶性樹脂及び光酸発生剤から成る化学増幅系ポジ型感光性組成物。〔式中、R01〜R03は水素原子又は酸素原子もしくは硫黄原子を含むアルキレン基、R2 、R3 、R10〜R12は水素原子、水酸基、アルキル基等を表し、a〜jは0〜5の整数である。〕

請求項（抜粋）：

少なくとも一種の一般式〔I〕〜〔XI〕のいずれかで表される化合物、アルカリ可溶性樹脂及び光酸発生剤から成ることを特徴とする化学増幅系ポジ型感光性組成物。【化1】【化2】【化3】【化4】【化5】式中、R01,R02,R03,R04;水素原子又はR05-X-R06-基(但し、R05はアルキル基、R06はアルキレン基、Xは酸素原子又は硫黄原子を示し、〔I〕〜〔XI〕の各分子中、R01〜R04の少なくとも1個はR05-X-R06-基である。)、R1 ;-CO-、-COO-、-NHCONH-、-NHCOO-、-O-、-S-、-SO-、-SO2 -、-SO3 -又は【化6】(G=2〜6、但し、G=2のときはR4 、R5 のうち少なくとも一方はアルキル基である。)R4 ,R5 ;水素原子、アルキル基、アルコキシ基、-OH、-COOH、-CN、ハロゲン原子、-R6 -COOR7 又は-R8 -OH、R6 ,R8 ;アルキレン基、R7 ;水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基、R2 ,R3 ,R9 〜R12,R15,R17〜R21,R25〜R27,R30〜R32,R37〜R42,R46〜R49及びR51;水素原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アシロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基又は-N(R13)(R14)(R13,R14;水素原子、アルキル基、アリール基)、R16;単結合、アルキレン基又は【化7】R22,R24;単結合、アルキレン基、-O-、-S-、-CO-又はカルボオキシ基、R23;水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アシロキシ基、アリール基、ニトロ基、水酸基、シアノ基又はカルボキシル基(但し、水酸基はR05-X-R06-基で置換されていてもよい。)、R28,R29;メチレン基、低級アルキル置換メチレン基、ハロメチレン基又はハロアルキル基、R33〜R36;水素原子又はアルキル基、R43〜R45;水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アシル基又はアシロキシ基、R50;水素原子、R05-X-R06-基又は【化8】R52,R53;水素原子、低級アルキル基、低級ハロアルキル基又はアリール基、Y;-CO-又は-SO2 -、Z,B;単結合又は-O-、A;メチレン基、低級アルキル置換メチレン基、ハロメチレン基又はハロアルキル基、E;単結合又はオキシメチレン基、a〜q,s,t,v,g1〜i1,k1〜m1,o1,q1,s1,u1;0〜5の整数、r,u,y,w,x,y,z,a1〜f1,p1,r1,t1,v1〜x1;0〜4の整数、j1,n1;0〜3の整数、y1;3〜8の整数(a〜y1;2以上のとき、( )内の基は同一でもよくまたは異なっていてもよい。)、(a+b), (e+f+g), (k+l+m), (q+r+s), (w+x+y), (c1+d1), (g1+h1+i1+j1), (o1+p1), (s1+t1)≧1、(j1+n1) ≦3、(r+u), (w+z), (x+a1),(y+b1), (c1+e1), (d1+f1), (p1+r1), (t1+v1), (x1+w1)≦4、(a+c), (b+d), (e+h), (f+i), (g+j), (k+n), (l+o), (m+p), (q+t), (s+v),(g1+k1), (h1+l1), (i1+m1), (o1+q1), (s1+u1) ≦5である。

IPC (4件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平1-154049
新規なベンゾピラン誘導体、これを用いたレジスト材料及びこのレジスト材料を用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-183020 出願人：和光純薬工業株式会社
ネガ型感光性組成物およびこれを用いたパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-236532 出願人：三菱化成株式会社

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