パターン検査方法及びその装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-065886
公開番号（公開出願番号）：特開2004-271470
出願日： 2003年03月12日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：

【課題】本発明では、同一パターンとなるように形成された2つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、膜厚の違いなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。また、画像比較アルゴリズムの変更を必要とせずに対応できるようにすることで、高速なパターン検査を実現する。【解決手段】上記課題を解決するために、本発明では、同一パターンとなるように形成された2つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、画像の比較処理を複数領域で並列に処理する手段を備えて構成した。また、パターン検査装置を、異なる複数の処理単位で比較画像間の画像信号の階調を変換する手段を備えて構成し、画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上に本来同一形状となるように形成された2つのパターンの対応する領域を撮像して得た参照画像と検査画像とを用いて欠陥を検出する方法であって、前記撮像して得た参照画像と検査画像とについて対応する第1の単位領域ごとの明るさの違いの補正と該第1の単位領域よりも大きい第2の単位領域ごとの明るさの違いの補正とを行い、該第1の単位領域ごとの明るさの補正と第2の単位領域ごとの明るさの補正とを行った参照画像と検査画像とを用いて欠陥を検出することを特徴とするパターン検査方法。

IPC (6件)：

G01N21/956 , G01N21/88 , G06T1/00 , G06T7/00 , H01L21/66 , H04N7/18

FI (6件)：

G01N21/956 A , G01N21/88 J , G06T1/00 305A , G06T7/00 300F , H01L21/66 J , H04N7/18 B

Fターム (56件)：

2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AB01 , 2G051AB02 , 2G051BA05 , 2G051BA10 , 2G051BA20 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051DA07 , 2G051EA08 , 2G051EA12 , 2G051EA14 , 2G051EA19 , 2G051EB01 , 2G051EB02 , 2G051EC02 , 2G051EC03 , 2G051ED07 , 4M106AA01 , 4M106AA02 , 4M106BA10 , 4M106CA39 , 4M106DB20 , 5B057AA03 , 5B057BA30 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CB08 , 5B057CB12 , 5B057CC02 , 5B057CH01 , 5B057DA03 , 5B057DA07 , 5B057DB02 , 5B057DB09 , 5B057DC22 , 5B057DC33 , 5C054AA05 , 5C054CA03 , 5C054CA04 , 5C054CA06 , 5C054EB05 , 5C054ED11 , 5C054EJ03 , 5C054FC01 , 5C054FC16 , 5C054HA05 , 5L096AA06 , 5L096BA03 , 5L096DA01 , 5L096EA12 , 5L096EA14 , 5L096GA08 , 5L096GA51 , 5L096HA07

引用特許：

審査官引用 (4件)

外観検査方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-002793 出願人：株式会社日立製作所
欠陥検査方法及びその装置並びに欠陥解析方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-250984 出願人：株式会社日立製作所
欠陥検査方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-110383 出願人：株式会社日立製作所

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