塗布ユニットおよびパターン修正装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：深見久郎 , 森田俊雄 , 仲村義平 , 堀井豊 , 野田久登 , 酒井將行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-025996
公開番号（公開出願番号）：特開2006-310266
出願日： 2006年02月02日
公開日（公表日）： 2006年11月09日
要約：

【課題】簡単な構成で欠陥部を迅速に修正することが可能な塗布ユニットおよびパターン修正装置を提供する。【解決手段】このパターン修正装置においては、待機時には塗布針固定板25を所定位置に位置決めして、塗布針先端部14aを修正液13の中に浸漬させる。塗布時には、塗布針固定板25を下降させて塗布針先端部14aを容器19の底の孔19aから突出させ、塗布針先端部14aに修正液13aを付着させる。次に、塗布ユニット5を下降させ、塗布針先端部14aを基板15の欠陥部15aに接触させて、欠陥部15aに修正液13aを塗布する。したがって、従来のように塗布針を欠陥部とインクタンクとの間を往復させる工程が省略される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置の塗布ユニットであって、その底に第1の孔が開口され、修正液が注入された容器、前記第1の孔と略同じ径を有する塗布針、前記塗布針を上下動可能に支持する直動案内部材、および前記塗布針を下方に移動させて前記塗布針の先端部を前記第1の孔から突出させ、前記塗布針の先端部に修正液を付着させる駆動部を備え、前記塗布針の先端部に付着した修正液を前記欠陥部に塗布することを可能とする、塗布ユニット。

IPC (6件)：

H01J 9/50 , B05C 1/02 , H01J 11/02 , H05K 3/22 , G02F 1/13 , G02B 5/20

FI (6件)：

H01J9/50 A , B05C1/02 101 , H01J11/02 B , H05K3/22 D , G02F1/13 101 , G02B5/20 101

Fターム (31件)：

2H048BA11 , 2H048BA64 , 2H088FA03 , 2H088FA14 , 2H088FA15 , 2H088FA17 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088HA02 , 2H088HA12 , 2H088MA20 , 4F040AA02 , 4F040AA12 , 4F040AA31 , 4F040AB04 , 4F040AB20 , 4F040AC01 , 4F040BA02 , 4F040CA02 , 4F040CA11 , 5C012AA09 , 5C040GC18 , 5C040GF19 , 5C040JA26 , 5C040JA31 , 5C040MA30 , 5E343BB72 , 5E343DD12 , 5E343ER51 , 5E343FF05 , 5E343GG11

引用特許：

出願人引用 (2件)

カラーフィルタの欠陥修正方法および欠陥修正装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-042354 出願人：エヌティエヌ株式会社
パターン修正装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-109517 出願人：エヌティエヌ株式会社

審査官引用 (5件)

欠陥修正装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-043441 出願人：エヌティエヌ株式会社
マイクロアレイ作製装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-225060 出願人：テイエチケー株式会社
基板にスポットするための装置および方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-604948 出願人：ピーイーコーポレイション(エヌワイ)

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