特許
J-GLOBAL ID：200903061590320298

水処理用担体、水処理用担体の製造方法および水処理用装置

発明者：
小要 広行

小要 広行 について

, 
宮坂 章

宮坂 章 について

, 
中林 正章

中林 正章 について


出願人/特許権者：
武田薬品工業株式会社

武田薬品工業株式会社 について


代理人 (1件)： 岡本 寛之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-019793
公開番号（公開出願番号）：特開2001-205287
出願日： 2000年01月28日
公開日（公表日）： 2001年07月31日
要約：
【要約】【課題】 気泡の付着が少なく、流動性などが良好で、水処理効率の向上を図ることのできる、水処理用担体、その水処理用担体の製造方法、および、その水処理用担体が用いられる水処理用装置を提供すること。【解決手段】 水処理用担体の表面を、スキン層によって形成するとともに、その内部を多孔質化する。スキン層とすることで、例えば、この水処理用担体を流動床として用いても、その表面に、槽内において発生する微細な気泡が付着したり、あるいは、付着した微生物により生成されるガスが、そのまま担体に付着することが少なく、余分な浮力が与えられることに起因する流動性の低下を防止することができる。また、その内部が多孔質とされるので、空孔率を適宜選択することにより、その比重を調整して流動性の向上を図ることができる。
請求項（抜粋）：
表面にスキン層を有し、かつ、その内部が多孔質であることを特徴とする、水処理用担体。
IPC (5件)：
C02F 3/10 ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/08 ,  C02F 3/34 101 ,  C02F 3/34
FI (5件)：
C02F 3/10 Z ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/08 B ,  C02F 3/34 101 D ,  C02F 3/34 101 B
Fターム (16件)：
4D003AA13 ,  4D003DA14 ,  4D003EA01 ,  4D003EA14 ,  4D003EA15 ,  4D003EA19 ,  4D003EA22 ,  4D003EA24 ,  4D003EA25 ,  4D003EA26 ,  4D003EA30 ,  4D003EA38 ,  4D003EA40 ,  4D003FA10 ,  4D040BB52 ,  4D040BB82
引用特許：
審査官引用 (20件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM