特許
J-GLOBAL ID：200903061885107820

基板洗浄方法及びその装置

発明者：
小林 一平

小林 一平 について

, 
亀井 裕雄

亀井 裕雄 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-143343
公開番号（公開出願番号）：特開2003-332287
出願日： 2002年05月17日
公開日（公表日）： 2003年11月21日
要約：
【要約】【課題】 洗浄液の供給態様を工夫することにより、洗浄具の汚染に起因する基板の相互汚染を防止する。【解決手段】 ブラシ9が基板に対して作用していない非作用位置にある際に、ブラシ9に対して洗浄液Mを噴霧してブラシ9を洗浄する。洗浄液Mを噴霧することにより、気体とともに液滴が供給され、ブラシ9に液滴があたる際の衝撃によってブラシ9を傷めることなく十分に清浄化できる。
請求項（抜粋）：
洗浄具を基板に作用させて基板に対して洗浄処理を施す基板洗浄方法において、前記洗浄具が基板に対して非作用位置にある場合に、前記洗浄具に対して洗浄液を噴霧して洗浄を行うことを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (6件)：
H01L 21/304 644 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08 ,  C03C 23/00 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500
FI (6件)：
H01L 21/304 644 Z ,  B08B 3/02 F ,  B08B 3/08 Z ,  C03C 23/00 A ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500
Fターム (15件)：
2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B201AA47 ,  3B201BB01 ,  3B201BB22 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB95 ,  3B201CD23 ,  4G059AA08 ,  4G059AB19 ,  4G059AC24
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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