特許
J-GLOBAL ID:200903062157279484

パターン形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 樺山 亨 ,  本多 章悟
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-200005
公開番号(公開出願番号):特開2005-043424
出願日: 2003年07月22日
公開日(公表日): 2005年02月17日
要約:
【課題】携帯機器に用いる表示装置に対しては軽量化や耐衝撃性が求められており、従来のガラス基板に代わってプラスチック基板の使用が検討されている。プラスチック基板はガラス基板に比べて能動素子形成プロセス中における寸法変化が大きく、その結果、基礎パターンに対する重ね合わせ位置がマージンを超える箇所が発生し、不良素子となるという問題がある。【解決手段】基礎パターン形成時に基板の寸法を測定しておき、重ねパターン形成前に寸法の再測定を行って基板の伸縮率を算出する。重ねパターンの一方の端のユニットを基礎パターンに重ねたとき、他方の端のユニットずれ量が許容誤差範囲に入らないとき、一方のユニットをマージンいっぱいに合わせ、中間のユニットで許容誤差を超えるユニットA’とその直前のユニットAとの間隔のみを所定の間隔xにマージンの2倍を加減した間隔x’に変える。【選択図】 図8
請求項(抜粋):
基礎パターンが形成された基板上に、少なくとも1つの所定の重ねパターンデータに従って重ねパターンを形成するパターン形成方法において、該重ねパターンの形成前に、予め定められた時点からの基板の伸縮率を計測し、その計測値に従って前記所定の重ねパターンデータを補正することを特徴とするパターン形成方法。
IPC (5件):
G03F9/00 ,  G02F1/1368 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786 ,  H01L51/00
FI (6件):
G03F9/00 G ,  G02F1/1368 ,  H01L29/78 612D ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 627C ,  H01L29/28
Fターム (60件):
2H088FA16 ,  2H088FA29 ,  2H088HA01 ,  2H088HA02 ,  2H088HA08 ,  2H092JA24 ,  2H092MA10 ,  2H092MA12 ,  2H092MA35 ,  2H092NA29 ,  2H092PA01 ,  2H097AA03 ,  2H097KA13 ,  2H097KA20 ,  2H097LA01 ,  2H097LA12 ,  5F110AA24 ,  5F110AA30 ,  5F110BB01 ,  5F110CC03 ,  5F110CC07 ,  5F110DD01 ,  5F110DD12 ,  5F110DD18 ,  5F110EE01 ,  5F110EE02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE07 ,  5F110EE44 ,  5F110FF01 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF28 ,  5F110FF30 ,  5F110GG02 ,  5F110GG05 ,  5F110GG15 ,  5F110GG24 ,  5F110GG28 ,  5F110GG45 ,  5F110HK01 ,  5F110HK02 ,  5F110HK03 ,  5F110HK04 ,  5F110HK06 ,  5F110HK07 ,  5F110HK09 ,  5F110HK16 ,  5F110HK21 ,  5F110HK22 ,  5F110HK32 ,  5F110HK33 ,  5F110HK35 ,  5F110NN02 ,  5F110NN27 ,  5F110NN33 ,  5F110QQ01 ,  5F110QQ06 ,  5F110QQ09
引用特許:
審査官引用 (5件)
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