特許
J-GLOBAL ID：200903066573660869
パターン形成装置、パターン形成方法、基材
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-066328
公開番号（公開出願番号）：特開2004-272167
出願日： 2003年03月12日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：
【課題】前工程パターンとの位置ずれ防止を可能とするパターン形成装置、パターン形成方法等を提供する。【解決手段】パターン形成装置100は、CCDカメラ302により基材303上を走査し、アライメントマークの画像データ等を取得し(ステップ502)、画像データについて画像処理を行い、基材長に関する測定データを取得する(ステップ503)。パターン形成装置100は、測定データに基づいて、新たなパターンの描画位置に関する描画データを算出し(ステップ504)、転写シート306を基材303上に積層し(ステップ506)、照射ヘッド301により基材303上を走査し、描画データに基づいて、転写シート306上にレーザビーム307を照射し、転写層を基材303上に転写、描画する(ステップ507)。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
ビーム照射を行うことによりパターンの形成を行うパターン形成装置であって、
基材上のマーク間距離を測定し測定データとして保持する測定手段と、
前記測定データに基づいて新たなパターンの描画位置に関する描画データを算出する描画データ算出手段と、
前記描画データに基づいて前記ビーム照射を行う照射手段と、
を具備することを特徴とするパターン形成装置。
IPC (3件)：
G03F9/00
, G02F1/1335
, G03F7/20
G03F9/00 A
, G02F1/1335 505
, G03F7/20 505
2H091FA02Y
, 2H091FA34Y
, 2H091FB02
, 2H091FC12
, 2H091FC29
, 2H091GA01
, 2H091GA02
, 2H091GA13
, 2H091LA30
, 2H097AA03
, 2H097AB05
, 2H097CA17
, 2H097GB02
, 2H097KA03
, 2H097KA29
, 2H097LA12
