特許
J-GLOBAL ID：200903062204613959
真空排気装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-294377
公開番号（公開出願番号）：特開平10-125657
出願日： 1996年10月16日
公開日（公表日）： 1998年05月15日
要約：
【要約】【課題】 ガスを循環させる排気系に使用され、このガスの循環をコンパクトな構成で確実に行うことができるようにする。【解決手段】 真空チャンバ1内にガスを導入し、該ガスを真空チャンバ1内から排気した後、その排気されたガスの一部を再び真空チャンバ1内に戻す真空システムで使用される真空排気装置20であって、真空チャンバ1内を所定の圧力に保つのに十分な排気速度を有した第一の真空ポンプ21の排気口21aと、ガスを再び真空チャンバ1内に戻すのに必要な圧力まで圧縮する性能を有した第二の真空ポンプ22の吸気口22aを連結したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
真空チャンバ内にガスを導入し、該ガスを真空チャンバ内から排気した後、その排気されたガスの一部を再び真空チャンバ内に戻す真空システムで使用される真空排気装置であって、真空チャンバ内を所定の圧力に保つのに十分な排気速度を有した第一の真空ポンプの排気口と、ガスを再び真空チャンバ内に戻すのに必要な圧力まで圧縮する性能を有した第二の真空ポンプの吸気口とを連結したことを特徴とする真空排気装置。
IPC (4件)：
H01L 21/3065
, B01J 3/03
, C23C 16/44
, H01L 21/205
H01L 21/302 B
, B01J 3/03 J
, C23C 16/44 D
, H01L 21/205
