特許
J-GLOBAL ID：200903062211340712
薬液混合供給方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
志賀 正武
, 渡邊 隆
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-071650
公開番号（公開出願番号）：特開2006-255696
出願日： 2006年03月15日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：
【課題】薬液混合供給方法を提供する。【解決手段】本発明は硫酸、過酸化水素、超純水、及びHFが混合したエッチング処理液を作る半導体製造工程の薬液混合供給方法に係り、本発明の薬液混合供給方法は、(a)混合タンクにHFがPPM単位に混合するようにHFを供給する段階と、(b)前記混合タンクに超純水、過酸化水素、及び硫酸を一定割合供給して混合する段階とを含み、前記(b)段階は、前記超純水、過酸化水素、及び硫酸の供給開始時点が互いに異なることを特徴とする。 このような薬液混合供給方法によると、硫酸、過酸化水素、及び超純水の供給開始時点を各々異にして、硫酸と過酸化水素との相互反応時間を最小化することによって、硫酸と過酸化水素の混合過程で発生する発熱時間が最小化できる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
薬液混合供給方法において、
(a)混合タンクに特定薬液がPPM単位で混合するように特定薬液を供給する段階と、
(b)前記混合タンクに少なくとも2つの薬液と超純水とを一定割合で供給して混合する段階とを含み、
前記(b)段階は、
前記少なくとも2つの薬液と前記超純水の供給開始時点は各々異なることを特徴とする薬液混合供給方法。
IPC (3件)：
B01J 4/00
, B01F 15/04
, H01L 21/306
B01J4/00 103
, B01F15/04 A
, H01L21/306 R
4G037BA01
, 4G037BB01
, 4G037BB06
, 4G037BE03
, 4G037EA01
, 4G068AA02
, 4G068AB15
, 4G068AC05
, 4G068AC16
, 4G068AD21
, 4G068AE01
, 4G068AE06
, 4G068AF01
, 4G068AF37
, 5F043EE31
