特許
J-GLOBAL ID：200903062212025837

洗浄剤および洗浄方法

発明者：
齋藤 健司

齋藤 健司 について

, 
山藤 茂夫

山藤 茂夫 について


出願人/特許権者：
ジーイー東芝シリコーン株式会社

ジーイー東芝シリコーン株式会社 について


代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-226618
公開番号（公開出願番号）：特開2003-041297
出願日： 2001年07月26日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：
【要約】【目的】 フロン系溶剤等を使用した洗浄に匹敵する、洗浄性、乾燥性等が得られる洗浄剤および洗浄方法を提供する。【構成】 本発明の洗浄剤は、低分子シロキサン化合物と炭素数 4〜30の脂肪族炭化水素系溶剤とからなる、あるいは低分子シロキサン化合物と炭素数 4〜30の脂環式炭化水素系溶剤とを含む共沸組成あるいは擬似共沸組成の混合物であり、洗浄から乾燥までを一液で行うことができる。低分子シロキサン化合物としては、直鎖状ポリジオルガノシロキサンおよび環状ポリジオルガノシロキサンから選ばれる少なくとも1種の低分子量ポリオルガノシロキサンが挙げられる。脂肪族炭化水素系溶剤としては、揮発性イソパラフィン系溶剤が挙げられる。
請求項（抜粋）：
低分子シロキサン化合物と、炭素数 4〜30の脂肪族炭化水素系溶剤とからなる共沸組成あるいは擬似共沸組成の混合物であることを特徴とする洗浄剤。
IPC (6件)：
C11D 7/50 ,  B08B 3/08 ,  C11D 7/24 ,  C11D 7/26 ,  C23G 5/024 ,  H01L 21/304 647
FI (6件)：
C11D 7/50 ,  B08B 3/08 Z ,  C11D 7/24 ,  C11D 7/26 ,  C23G 5/024 ,  H01L 21/304 647 A
Fターム (29件)：
3B201AA46 ,  3B201AB38 ,  3B201AB45 ,  3B201BB04 ,  3B201BB05 ,  3B201BB95 ,  3B201CB15 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CC15 ,  3B201CD22 ,  4H003DA09 ,  4H003DA14 ,  4H003DA15 ,  4H003DB02 ,  4H003DC04 ,  4H003EB25 ,  4H003ED04 ,  4H003ED32 ,  4H003FA01 ,  4H003FA03 ,  4H003FA21 ,  4H003FA46 ,  4K053PA02 ,  4K053PA17 ,  4K053QA06 ,  4K053RA32 ,  4K053SA06 ,  4K053ZA01
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 精密洗浄方法および洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-119590   出願人：オリンパス光学工業株式会社
  • 洗浄剤
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-047286   出願人：オリンパス光学工業株式会社
  • 洗浄方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-152849   出願人：オリンパス光学工業株式会社
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