両用(共焦点干渉)方式光学側面計

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：河野登夫 , 河野英仁
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-508915
公開番号（公開出願番号）：特表2007-534019
出願日： 2005年04月20日
公開日（公表日）： 2007年11月22日
要約：

本発明は、表面の3次元検査及び測定用の両用(共焦点干渉)方式光学側面計に関する。本発明は、光源(LED)、ビームスプリッタ(少なくとも一つは偏光性)、照明パターン発生手段(LCoSマイクロディスプレイ)、及び標準のレンズの形状では共焦点像が得られ干渉レンズでは干渉像が得られる交換可能な顕微鏡レンズを備える。本発明によれば、マイクロディスプレイは、共焦点像を得るために一連の光パターンを発生するか又は干渉像を得るために全ての光画素の全開口を生成することができる。本発明の側面計は小型に設計されており、異なる材質を含む組織化又は層状化された試料を含むミクロン及びナノメートルスケールの任意の型の表面の形状及びテクスチャの迅速及び非接触の測定が可能である。

請求項（抜粋）：

光源(2)、ビームスプリッタ(3,4)、及び一連の顕微鏡レンズ(6,7,8)を備える両用(共焦点干渉)方式光学側面計(1)において、照明パターン発生手段(5)をさらに備え、前記顕微鏡レンズ(6,7,8)は交換可能であり、前記顕微鏡レンズ(6,7,8)は、試料(11)の表面の共焦点像を得るのに用いられる従来のレンズ、及び該試料(11)の表面の干渉像を得るのに用いられる干渉レンズを含むことを特徴とする両用(共焦点干渉)方式光学側面計。

IPC (4件)：

G02B 21/00 , G01B 9/02 , G01B 9/04 , G01B 11/24

FI (5件)：

G02B21/00 , G01B9/02 , G01B9/04 , G01B11/24 D , G01B11/24 K

Fターム (57件)：

2F064AA09 , 2F064BB07 , 2F064CC10 , 2F064EE10 , 2F064FF03 , 2F064GG23 , 2F064GG47 , 2F064GG51 , 2F064GG61 , 2F064GG64 , 2F064GG65 , 2F064HH03 , 2F064HH08 , 2F064JJ15 , 2F064MM04 , 2F064MM32 , 2F064MM34 , 2F064MM45 , 2F064MM47 , 2F065AA21 , 2F065AA31 , 2F065AA49 , 2F065AA53 , 2F065AA59 , 2F065BB05 , 2F065FF04 , 2F065FF10 , 2F065FF52 , 2F065GG07 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065LL04 , 2F065LL10 , 2F065MM16 , 2F065MM26 , 2F065MM28 , 2F065PP24 , 2F065QQ16 , 2F065QQ31 , 2F065SS13 , 2F065UU07 , 2H052AA04 , 2H052AA08 , 2H052AB05 , 2H052AB24 , 2H052AB25 , 2H052AC04 , 2H052AC14 , 2H052AC15 , 2H052AC27 , 2H052AC33 , 2H052AD33 , 2H052AD34 , 2H052AF02 , 2H052AF04 , 2H052AF14 , 2H052AF21

引用特許：

出願人引用 (1件)

国際公開第01/042735号パンフレット

審査官引用 (7件)

共焦干渉顕微鏡のための背景補償
公報種別：公表公報出願番号：特願平10-534709 出願人：ゼテティック・インスティチュート
光学装置及び顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-253097 出願人：オリンパス光学工業株式会社
光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-088580 出願人：オリンパス光学工業株式会社

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