特許
J-GLOBAL ID：200903062358031375

基板処理装置

発明者：
山本 悟史

山本 悟史 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (3件)： 小谷 悦司 ,  植木 久一 ,  伊藤 孝夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-097514
公開番号（公開出願番号）：特開2005-279451
出願日： 2004年03月30日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
要約：
【課題】 大型サイズの被処理基板に対しても、ブラシ洗浄面におけるブラシ毛を均一に作用させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板洗浄装置1は、洗浄すべき基板Sの洗浄用ブラシ毛12が、平板状のブラシ基部11に対して植毛されてなる平面状のブラシ洗浄面12Hを備えたブラシ本体部10と、前記ブラシ基部11の裏面111側に設けられ、前記ブラシ本体部10を吊止め支持する支持材21を備える剛直な部材からなるブラシ取り付けベース2とを具備する。ブラシ取り付けベース2取り付けられた支持材21は、ブラシ洗浄面12Hのブラシ毛先が、基板Sの表面と接触する長さを部分的に調整可能とする矯正手段Aを兼ねている。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板処理用のブラシ毛が平板状のブラシ基部に対して立設されてなる平面状のブラシ処理面を備えたブラシ本体部と、前記ブラシ基部の裏面側に設けられ、前記ブラシ本体部を支持するブラシ取り付けベースとを備え、 前記ブラシ取り付けベースには、前記ブラシ処理面のブラシ毛先が、基板表面に作用する度合いを部分的に調整可能とする矯正手段が設けられていることを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
B08B1/02 ,  B08B3/04 ,  B08B3/10 ,  H01L21/304
FI (7件)：
B08B1/02 ,  B08B3/04 B ,  B08B3/10 A ,  H01L21/304 643B ,  H01L21/304 644D ,  H01L21/304 644F ,  H01L21/304 648G
Fターム (21件)：
3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB14 ,  3B116BA02 ,  3B116BA22 ,  3B116BB22 ,  3B116BC05 ,  3B116CC03 ,  3B116CD23 ,  3B116CD41 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB14 ,  3B201BA02 ,  3B201BA22 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BC05 ,  3B201CC12 ,  3B201CD23 ,  3B201CD41
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • ブラシ洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-179496   出願人：松下電器産業株式会社
審査官引用 (5件)
  • 洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-149374   出願人：株式会社東芝
  • 基板洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-125690   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 特開昭62-144793
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