特許
J-GLOBAL ID:200903062375399424
エマルションの製造装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
清水 守
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-209334
公開番号(公開出願番号):特開2004-351417
出願日: 2004年07月16日
公開日(公表日): 2004年12月16日
要約:
【課題】 簡便に、しかも迅速にエマルションを生成させることができるエマルション製造装置を提供する。 【解決手段】 エマルションの製造装置において、平行電極112を持つ基板111と、この基板111上に形成されるマイクロチャンネル113とを備え、前記マイクロチャンネル113の上流側の分散相114を前記平行電極112に印加される移動電界により吸引・排出してエマルションを生成させる。【選択図】図16
請求項(抜粋):
(a)平行電極を持つ基板と、
(b)該基板上に形成されるマイクロチャンネルとを備え、
(c)前記マイクロチャンネルの上流側の分散相を前記平行電極に印加される移動電界により吸引・排出してエマルションを生成させることを特徴とするエマルションの製造装置。
IPC (3件):
B01F3/08
, B01F5/06
, B81B1/00
FI (3件):
B01F3/08 A
, B01F5/06
, B81B1/00
Fターム (4件):
4G035AB37
, 4G035AB40
, 4G035AC12
, 4G035AC27
引用特許:
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