特許

J-GLOBAL ID：200903062396163811

マスクケース、マスクカセット、パターン転写方法及び表示装置の製造方法

発明者： 井村 和久
出願人/特許権者： HOYA株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-269609
公開番号（公開出願番号）：特開2008-087811
出願日： 2006年09月29日
公開日（公表日）： 2008年04月17日
要約：

【課題】マスクケースからマスクカセットへマスクを入れ替える作業を容易に行なうことのできるマスクケース、マスクカセット、パターン転写方法及び表示装置の製造方法の提供を目的とする。【解決手段】マスクケース1は、フォトマスク10とマスクカセット100を搬送可能に収容するマスクケースであって、マスク保持手段4及びカセット保持手段5を備え、フォトマスク10がマスクカセット100から取り出される際、マスクカセット100にフォトマスク10がセットされた状態で取り出される構成としてある。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

マスクと、 製造装置及び/又は検査装置において使用される、前記マスクが少なくとも載置されるマスクカセットと を搬送可能に収容するマスクケースであって、 前記マスクが前記マスクケースから取り出される際、前記マスクカセットに前記マスクが少なくとも載置された状態で取り出されることを特徴とするマスクケース。

IPC (3件)：

B65D 85/86 ,  G03F 1/14 ,  H01L 21/673

FI (3件)：

B65D85/38 K ,  G03F1/14 M ,  H01L21/68 T

Fターム (31件)：

2H095BE12 ,  3E096AA01 ,  3E096BA20 ,  3E096BA24 ,  3E096BA30 ,  3E096BB05 ,  3E096CA02 ,  3E096CA06 ,  3E096CB03 ,  3E096DA11 ,  3E096DA17 ,  3E096DA23 ,  3E096DB01 ,  3E096DB06 ,  3E096EA02X ,  3E096EA06X ,  3E096FA22 ,  3E096FA27 ,  3E096FA30 ,  3E096GA14 ,  5F031CA07 ,  5F031DA01 ,  5F031DA11 ,  5F031EA19 ,  5F031FA04 ,  5F031FA07 ,  5F031KA03 ,  5F031MA27 ,  5F031PA09 ,  5F031PA18 ,  5F031PA30

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 大型精密シート状(半)製品用密封容器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-286913   出願人：有限会社ネットプラスチック, 呉羽化学工業株式会社
• 基板交換装置および基板管理コード読み取り機構
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-202846   出願人：キヤノン株式会社

審査官引用 (2件)

• マスクフレーム、露光方法及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-194708   出願人：株式会社ニコン
• レチクル保護装置および露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-376571   出願人：株式会社ニコン