特許
J-GLOBAL ID:200903062450186580
極微小光導波路およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-008580
公開番号(公開出願番号):特開2003-207667
出願日: 2002年01月17日
公開日(公表日): 2003年07月25日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、光の回折限界を超えて微小サイズの光導波路に光伝搬させる装置および光の波長以下のサイズを有する光導波路を製造する方法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明による 極微小光導波路は、金属基板中に部分的に埋め込まれ、光の波長以下の幅と高さを有する酸化膜よりなるとともに、金属基板がチタン、アルミニウム、銀等の異種金属の複合積層膜より形成されることを特徴とする。また、本発明の極微小光導波路の製造方法は、金属基板表面を原子間力顕微鏡等の探針先端を用いて陽極酸化して酸化膜を形成することを特徴とする。
請求項(抜粋):
金属基板中に部分的に埋め込まれ、光の波長以下の幅と高さを有する酸化膜よりなることを特徴とする極微小光導波路。
IPC (2件):
FI (2件):
G02B 6/12 A
, G02B 6/12 M
Fターム (5件):
2H047KA03
, 2H047PA00
, 2H047PA03
, 2H047QA01
, 2H047TA01
引用特許:
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