膜形成方法及び膜形成装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金本哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-109028
公開番号（公開出願番号）：特開2001-291660
出願日： 2000年04月11日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：

【要約】【課題】ウェハ上の温度を調節して,ウェハ上に厚みの均一な処理液の膜を形成する膜形成装置を提供する。【解決手段】レジスト塗布装置17内に,スピンチャック60上に載置されたウェハW上の温度を非接触で測定できるサーモビュワー85を設ける。レジスト塗布装置17上方には,ウェハWに向けて所定温度の気体を供給する気体供給手段70を設ける。この気体供給手段70には,複数個の温度調節室75a,75b,75cが同心円状に設けられており,各温度調節室75で個別に温度調節された気体が,各温度調節室75の位置に対向するウェハW上の各部分に供給される。各温度調節室75の温度は温度制御装置77により制御されている。そして,サーモビュワー85による測定結果を温度制御装置77に送信し,そのデータに基づいて各気体の温度を調節し,ウェハW上の温度を調節する。

請求項（抜粋）：

処理室内に気体を供給すると共に,前記処理室内の雰囲気を排気する状態で,前記処理室内の保持部材に載置された基板に処理液を供給し,基板表面に前記処理液の膜を形成する膜形成方法であって,前記処理液の供給前に,前記基板表面の温度を測定する工程を有することを特徴とする,膜形成方法。

IPC (7件)：

H01L 21/027 , B05C 9/08 , B05C 11/08 , B05C 11/10 , B05D 1/40 , B05D 3/00 , G03F 7/16 502

FI (8件)：

B05C 9/08 , B05C 11/08 , B05C 11/10 , B05D 1/40 A , B05D 3/00 D , G03F 7/16 502 , H01L 21/30 564 C , H01L 21/30 562

Fターム (37件)：

2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025EA05 , 4D075AC64 , 4D075AC92 , 4D075AC93 , 4D075AC94 , 4D075AC96 , 4D075BB57Y , 4D075CA48 , 4D075DA08 , 4D075DB11 , 4D075DC22 , 4D075EA45 , 4F042AA02 , 4F042AA07 , 4F042BA05 , 4F042BA10 , 4F042BA13 , 4F042BA19 , 4F042BA20 , 4F042BA25 , 4F042EB24 , 4F042EB29 , 4F042EB30 , 5F046CD01 , 5F046CD05 , 5F046JA02 , 5F046JA07 , 5F046JA08 , 5F046JA13 , 5F046JA16 , 5F046JA22 , 5F046JA24 , 5F046KA01 , 5F046KA07 , 5F046LA18

引用特許：

審査官引用 (9件)

処理液塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-295408 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開昭63-070424
特開昭63-070424

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