特許
J-GLOBAL ID:200903062611146451

質量分析装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小林 良平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-043237
公開番号(公開出願番号):特開2007-225285
出願日: 2006年02月21日
公開日(公表日): 2007年09月06日
要約:
【課題】試料上の二次元測定対象領域に目的成分が含まれるか否かを調べるような場合に測定スループットを向上させる。【解決手段】設定された空間分解能に対応して測定対象領域指示枠41の範囲内に設定される微小測定領域(レーザ照射領域)に対し、まず1回目の走査では1乃至複数個おきに質量分析が実行されるように試料ステージを移動させる。これにより、所望の空間分解能よりも低い分解能の粗い二次元質量分布画像を作成して表示する。その後に、2回目以降の走査として、それ以前に質量分析したものを除いて微小測定領域の走査を行い、その質量分析結果が得られる毎に二次元質量分布画像にその結果を追加表示して空白を埋めてゆく。これによれば、測定対象領域全体の粗い二次元質量分布が表示されてから徐々に精細度が上がるので、目的成分が見つかった時点で測定を打ち切ることができ、測定時間の短縮を図ることができる。【選択図】図3
請求項(抜粋):
a)試料上の微小測定領域にレーザ光を照射するレーザ照射手段と、 b)前記レーザ光の照射に対応して微小測定領域を中心に発生したイオンを質量数に応じて分離して検出する質量分析手段と、 c)試料上で微小測定領域が離散的に変化するように試料とレーザ照射手段との相対位置を変化させる走査手段と、 d)試料上に設定された測定対象領域における二次元質量分布を取得するために前記レーザ照射手段、質量分析手段、及び走査手段をそれぞれ制御する制御手段と、 e)前記二次元質量分布を表示する表示手段と、 を備え、前記制御手段は、まず測定対象領域の全体について所定間隔で以て順次微小測定領域の質量分析を実行するべく走査を行うことにより、該測定対象領域の粗い二次元質量分布を前記表示手段に表示させ、その後に前記測定対象領域の全体又はその中の一部領域について、先の走査時に質量分析を実行した微小測定領域と異なる微小測定領域の質量分析を実行するべく走査を行うことにより、前記表示手段に表示される二次元質量分布の空間分解能を段階的に高めるようにしたことを特徴とする質量分析装置。
IPC (3件):
G01N 27/62 ,  G01N 27/64 ,  H01J 49/10
FI (3件):
G01N27/62 Y ,  G01N27/64 B ,  H01J49/10
Fターム (11件):
2G041CA01 ,  2G041DA02 ,  2G041DA04 ,  2G041GA02 ,  2G041GA03 ,  2G041GA06 ,  2G041MA06 ,  5C038GG07 ,  5C038GH06 ,  5C038GH15 ,  5C038GH17
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 米国特許第5808300号明細書
審査官引用 (3件)

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