プラズマ発生アセンブリ

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：曾我道照 , 曾我道治 , 古川秀利 , 鈴木憲七 , 梶並順
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-518665
公開番号（公開出願番号）：特表2006-515708
出願日： 2004年01月28日
公開日（公表日）： 2006年06月01日
要約：

少なくとも一対の実質的に等間隔に離隔した電極(2)を備え、該電極(2)間の間隔はプロセスガスの導入時にプラズマゾーン(8)を形成するようになっており、必要に応じて、気体、液体及び/または固体前駆物質が通過できる大気圧プラズマアセンブリ(1)において、前記少なくとも一対の電極(2)は内壁(5)及び外壁(6)を有するハウジング(20)を備え、前記内壁(5)は非多孔性の誘電体材料から形成され、前記ハウジング(20)は実質的に、少なくとも実質的に非金属性導電性材料を有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

少なくとも一対の実質的に等間隔に離隔した電極(2)を備え、該電極(2)間の間隔はプロセスガスの導入時にプラズマゾーン(8)を形成するようになっており、必要に応じて、気体、液体及び/または固体前駆物質が通過できる大気圧プラズマアセンブリ(1)において、前記少なくとも一対の電極(2)は内壁(5)及び外壁(6)を有するハウジング(20)を備え、前記内壁(5、6)は非多孔性の誘電体材料から形成され、前記ハウジング(20)は実質的に、少なくとも実質的に非金属性導電性材料を有することを特徴とする、プラズマグロー放電及び/または誘電障壁放電発生アセンブリ。

IPC (6件)：

H05H 1/24 , C23C 16/507 , C23C 16/509 , C23C 16/50 , C23C 16/455 , B01J 19/08

FI (6件)：

H05H1/24 , C23C16/507 , C23C16/509 , C23C16/50 , C23C16/455 , B01J19/08 E

Fターム (29件)：

4G075AA22 , 4G075AA27 , 4G075AA30 , 4G075BC01 , 4G075BC06 , 4G075CA03 , 4G075CA16 , 4G075CA47 , 4G075CA57 , 4G075DA02 , 4G075EB27 , 4G075EC21 , 4G075EE02 , 4G075FC15 , 4K030AA09 , 4K030AA11 , 4K030BA44 , 4K030BA61 , 4K030EA01 , 4K030EA04 , 4K030EA06 , 4K030FA01 , 4K030FA03 , 4K030FA04 , 4K030JA09 , 4K030KA15 , 4K030KA16 , 4K030KA46 , 4K030KA47

引用特許：

審査官引用 (9件)

大気圧グロ-放電用電極及び該電極を使用したプラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-009945 出願人：イーシー化学株式会社, 岡崎幸子, 小駒益弘
大気圧グロー放電プラズマによる粉体の処理方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-305690 出願人：イーシー化学株式会社
特開平3-188285

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