特許
J-GLOBAL ID:200903062703144366
液滴の塗布方法、コンピュータプログラム、有機ELパネルの製造方法、電気光学パネルの製造方法及び電子機器の製造方法、並びに液滴の塗布装置、電気光学パネル、電気光学装置及び電子機器
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
上柳 雅誉
, 藤綱 英吉
, 須澤 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-098275
公開番号(公開出願番号):特開2004-298844
出願日: 2003年04月01日
公開日(公表日): 2004年10月28日
要約:
【課題】塗布ムラ(乾き具合のばらつき)を抑制する液滴の塗布方法を提供する。【解決手段】基板1に対し液滴吐出方式により液滴を吐出させて前記液滴を塗布する方法であって、(a) 塗布された前記液滴(1)の一端部に対応する位置に液滴(2)を吐出するステップと、(b) 前記(a)の後に、前記塗布された液滴のうち前記一端部と反対側の他端部に対応する位置に液滴(3)を吐出するステップと、(c) 前記(b)の後に、前記塗布された液滴のうち前記一端部に対応する位置に液滴(4)を吐出するステップとを備えている。【選択図】 図6
請求項(抜粋):
基板に対し液滴吐出方式により液滴を吐出させて前記液滴を塗布する方法であって、
(a) 塗布された前記液滴の一端部に対応する位置に液滴を吐出するステップと、
(b) 前記塗布された液滴のうち前記一端部と反対側の他端部に対応する位置に液滴を吐出するステップと、
(c) 前記塗布された液滴のうち前記一端部に対応する位置に液滴を吐出するステップと
を備えた液滴の塗布方法。
IPC (8件):
B05D1/26
, B05C5/00
, B41J2/01
, G02B5/20
, H01L21/027
, H05B33/10
, H05B33/12
, H05B33/14
FI (8件):
B05D1/26 Z
, B05C5/00 101
, G02B5/20 101
, H05B33/10
, H05B33/12 E
, H05B33/14 A
, B41J3/04 101Z
, H01L21/30 564Z
Fターム (47件):
2C056EA06
, 2C056EC07
, 2C056EC11
, 2C056EC37
, 2C056FA10
, 2C056FA15
, 2C056FB01
, 2H048BA64
, 2H048BB02
, 3K007AB17
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4D075AC06
, 4D075AC09
, 4D075AC88
, 4D075AC91
, 4D075AC93
, 4D075AC96
, 4D075BB24Z
, 4D075BB56Y
, 4D075BB69Y
, 4D075BB91Y
, 4D075BB93Y
, 4D075CA48
, 4D075CB07
, 4D075CB08
, 4D075DA06
, 4D075DB13
, 4D075DB31
, 4D075DC19
, 4D075DC21
, 4D075DC24
, 4D075EA07
, 4D075EA45
, 4D075EC07
, 4D075EC11
, 4D075EC17
, 4F041AA02
, 4F041AA05
, 4F041AB01
, 4F041BA13
, 4F041BA22
, 4F041BA34
, 4F041BA38
, 5F046JA02
, 5F046JA27
引用特許: