基板回転・加熱装置並びにこれを用いた成膜装置及び分析装置

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者： , , , , ,
代理人 (1件)：曾我道照 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-081454
公開番号（公開出願番号）：特開2002-280306
出願日： 2001年03月21日
公開日（公表日）： 2002年09月27日
要約：

【要約】【課題】本発明は、超高温域まで安定に基板を加熱できると共に、安定的に基板を回転させることができる基板回転・加熱装置ないしこれを用いた成膜装置及び分析装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明による基板回転・加熱装置は、基板(9)の表面(9A)に薄膜を均一に蒸着させるために、または、前記基板表面(9A)に形成された薄膜を分析するために、前記基板(9)を保持すると共に、前記基板表面(9A)を垂直に貫通する第1回転軸(9C)を軸として前記基板(9)を回転させる回転機構(10)と、前記回転機構(10)の前記第1回転軸(9C)を貫通し、赤外線源(15)から出射される赤外線を前記基板(9)の裏面(9B)に照射する導光棒(1)とを備える構成である。

請求項（抜粋）：

基板(9)の表面(9A)に薄膜を均一に蒸着させるために、または、前記基板表面(9A)に形成された薄膜を分析するために、前記基板(9)を保持すると共に、前記基板表面(9A)を垂直に貫通する第1回転軸(9C)を軸として前記基板(9)を回転させる回転機構(10)と、前記回転機構(10)の前記第1回転軸(9C)を貫通し、赤外線源(15)から出射される赤外線を前記基板(9)の裏面(9B)に照射する導光棒(1)とを備える基板回転・加熱装置。

IPC (5件)：

H01L 21/203 , C23C 14/28 , C23C 14/50 , G01N 23/20 , G01N 23/203

FI (7件)：

H01L 21/203 Z , H01L 21/203 S , C23C 14/28 , C23C 14/50 E , C23C 14/50 J , G01N 23/20 , G01N 23/203

Fターム (39件)：

2G001AA03 , 2G001AA05 , 2G001BA14 , 2G001BA15 , 2G001BA18 , 2G001CA03 , 2G001CA05 , 2G001EA04 , 2G001EA20 , 2G001GA13 , 2G001GA17 , 2G001HA12 , 2G001JA08 , 2G001JA11 , 2G001JA14 , 2G001KA01 , 2G001KA08 , 2G001KA12 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001PA07 , 2G001PA12 , 2G001PA15 , 2G001RA03 , 4K029AA04 , 4K029CA01 , 4K029DA08 , 4K029DB20 , 4K029EA08 , 4K029JA02 , 5F103AA01 , 5F103AA08 , 5F103AA10 , 5F103BB38 , 5F103BB42 , 5F103DD30 , 5F103LL02 , 5F103NN01 , 5F103RR05

引用特許：

審査官引用 (5件)

特公昭40-007978
薄膜の形成方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-194328 出願人：コーア株式会社, 神港精機株式会社
特開平4-010528

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