特許

J-GLOBAL ID：200903062760844820

ウエハ保持方法及び装置

発明者： 作石 敏幸
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 北村 欣一 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-043260
公開番号（公開出願番号）：特開2000-243814
出願日： 1999年02月22日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
要約：

【要約】【課題】反りを生じているウエハを損傷せずに確実に吸着できるウエハ保持方法と装置を提供する。【解決手段】シリコンウエハ等のウエハ2を真空吸引孔3a等のウエハ吸着装置3を備えた平坦面1aを有するウエハ保持装置1上に吸着して保持する保持方法に於いて、該ウエハ保持装置の上方から該保持装置に載置されたウエハの表面に向けてガスを吹き付けし、該ウエハの反りを矯正してこれを該平坦面に吸着する。該ウエハ保持装置の上方に、該保持装置に載置されたウエハに向けてガスを吹き付けて該ウエハの反りを矯正するガスノズル4を設ける。

請求項（抜粋）：

シリコンウエハ等のウエハを真空吸引孔等のウエハ吸着装置を備えた平坦面を有するウエハ保持装置上に吸着して保持する保持方法に於いて、該ウエハ保持装置の上方から該保持装置に載置されたウエハの表面に向けてガスを吹き付けし、該ウエハの反りを矯正してこれを該平坦面に吸着することを特徴とするウエハ保持方法。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B25J 15/06 ,  B65G 49/07

FI (4件)：

H01L 21/68 N ,  H01L 21/68 B ,  B25J 15/06 N ,  B65G 49/07 G

Fターム (17件)：

3F061AA01 ,  3F061CA01 ,  3F061CC03 ,  3F061DB00 ,  3F061DB04 ,  3F061DB06 ,  5F031CA02 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031GA08 ,  5F031HA13 ,  5F031HA16 ,  5F031MA31 ,  5F031PA13 ,  5F031PA20

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ウェーハの吸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-359144   出願人：株式会社ディスコ
• 画像形成用露光装置とワーク位置決め方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-338984   出願人：株式会社オーク製作所
• 基板搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-239077   出願人：大日本スクリーン製造株式会社