リソグラフィ装置、エキシマ・レーザ及びデバイス製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 山本貴和 , 吉田裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-372999
公開番号（公開出願番号）：特開2006-179935
出願日： 2005年12月26日
公開日（公表日）： 2006年07月06日
要約：

【課題】リソグラフィ・パターン印刷プロセスのCDピッチ依存性は、パターンを投影するために使用される放射のスペクトル強度分布に関連付けられるので、システム毎に変化するため、システム間における孤立-稠密バイアス不整合の原因になっている。【解決手段】本発明は、放射の投影ビームを提供するための照明システムと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムと、基板を保持するための基板テーブルと、投影ビームの放射強度のスペクトル分布を調整するためのコントローラとを備えたリソグラフィ装置を提供することによってこの問題に対処している。スペクトル強度分布の調整は、孤立-稠密バイアスに関連するデータに基づいており、スペクトル帯域幅を広くするか、或いはスペクトル強度分布の形状を変化させることからなっている。【選択図】図4(a)

請求項（抜粋）：

放射強度のスペクトル分布を有する電気-磁気放射のビームを提供するための放射システムと、前記放射のビームの断面にパターンを付与するべく機能するパターン化デバイスを支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化された前記放射のビームを前記基板の目標部分に投射するための投影システムと、第1の焦点位置における露光及び第2の焦点位置における露光に関連し、且つ、フィーチャの対応する第1の印刷サイズ及び第2の印刷サイズを表すデータに基づいて放射強度の前記スペクトル分布を調整するようになされ、且つ、配置されたコントローラとを備えたリソグラフィ装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , H01S 3/00

FI (4件)：

H01L21/30 514C , G03F7/20 521 , H01L21/30 515B , H01S3/00 A

Fターム (7件)：

5F046BA03 , 5F046CA04 , 5F046CA10 , 5F046DA01 , 5F046DB01 , 5F172AD06 , 5F172ZZ02

引用特許：

出願人引用 (1件)

米国特許出願公開第2002/0048288 A1号

審査官引用 (4件)

リソグラフィ処理のためのレーザスペクトルエンジニアリング
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-516804 出願人：サイマーインコーポレイテッド
パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-351164 出願人：日本電気株式会社
半導体露光装置及び露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-309798 出願人：ソニー株式会社

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