リソグラフィ処理のためのレーザスペクトルエンジニアリング

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：熊倉禎男 , 大塚文昭 , 今城俊夫 , 西島孝喜
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-590463
公開番号（公開出願番号）：特表2005-501399
出願日： 2002年04月19日
公開日（公表日）： 2005年01月13日
要約：

【課題】レーザ、特に出力ビームの帯域幅を制御する技術を提供する。【解決手段】放電レーザの帯域幅制御のための集積回路リソグラフィ技術(スペクトルエンジニアリング)。コンピュータは、リソグラフィパラメータをモデリングし、所望のリソグラフィの結果を得るために必要とされる所望のレーザスペクトルを判断する。高速応答同調機構(104)は、パルスバースト内のレーザパルスの中心波長を調節して、所望のレーザスペクトルを近似する積分スペクトルを得る。レーザビーム帯域幅は、フォトレジストフィルムでのパターン解像度を改善させるために、少なくとも2つのスペクトルピークを有する効果的なビームスペクトルを生成するように制御される。ラインナローイング機器(106)が設けられ、それは、少なくとも1つの圧電駆動装置と、約2.0ミリ秒よりも短い時間応答を有する高速帯域幅検出制御システムとを有する。レーザの繰返し率と同位相の毎秒500ディザーを上回るディザー率で波長同調ミラーがディザリングされる。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

A.所望のリソグラフィ結果を生成するのに必要な所望のレーザスペクトルを判断するために、コンピュータプログラムを用いてリソグラフィパラメータをモデリングする段階と、 B.該所望のレーザスペクトルを近似する、パルスバーストに対する積分スペクトルを得るために、該パルスバーストのレーザパルスの中心波長を調節する高速応答同調機構を利用する段階と、を含むことを特徴とする、リソグラフィ照射を準備する方法。

IPC (4件)：

H01L21/027 , G03F7/207 , H01S3/137 , H01S3/139

FI (6件)：

H01L21/30 514C , G03F7/207 H , H01S3/137 , H01S3/139 , H01L21/30 516A , H01L21/30 515B

Fターム (19件)：

5F046BA03 , 5F046CA04 , 5F046CA07 , 5F046CB22 , 5F046DA14 , 5F046DB14 , 5F072AA06 , 5F072HH02 , 5F072HH08 , 5F072JJ05 , 5F072JJ13 , 5F072KK06 , 5F072KK07 , 5F072KK08 , 5F072MM12 , 5F072MM16 , 5F072MM18 , 5F072RR05 , 5F072YY09

引用特許：

審査官引用 (8件)

レーザの帯域幅制御技術
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-034157 出願人：サイマーインコーポレイテッド
リソグラフィ処理のためのレーザスペクトルエンジニアリング
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-516804 出願人：サイマーインコーポレイテッド
超狭帯域化フッ素レーザ装置及びフッ素露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-169772 出願人：株式会社小松製作所

全件表示

前のページに戻る