特許
J-GLOBAL ID：200903062795260081
パターン画像比較方法、パターン画像比較装置及びプログラム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-170240
公開番号（公開出願番号）：特開2004-013095
出願日： 2002年06月11日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：
【課題】数値化が可能なパラメータで、設計データのパターン画像とレチクルマスクのパターン画像とを比較することを課題とする。【解決手段】レチクルマスク又は半導体装置のための設計データに基づく第1のパターン画像を入力する第1の入力ステップと、設計データを基に製造されたレチクルマスク又は半導体装置の第2のパターン画像を入力する第2の入力ステップと、第1のパターン画像及び第2のパターン画像の一部又は全部の面積、外周、重心及び対角線のパラメータのうちの少なくとも1つのパラメータを算出する算出ステップと、算出した第1及び第2のパターン画像のパラメータを基に、レチクルマスク又は半導体装置のパターンと設計データのパターンとの比較結果を出力する出力ステップとを有するパターン画像比較方法が提供される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
レチクルマスク又は半導体装置のための設計データに基づく第1のパターン画像を入力する第1の入力ステップと、
前記設計データを基に製造されたレチクルマスク又は半導体装置の第2のパターン画像を入力する第2の入力ステップと、
前記第1のパターン画像及び前記第2のパターン画像の一部又は全部の面積、外周、重心及び対角線のパラメータのうちの少なくとも1つのパラメータを算出する算出ステップと、
前記算出した第1及び第2のパターン画像のパラメータを基に、レチクルマスク又は半導体装置のパターンと設計データのパターンとの比較結果を出力する出力ステップと
を有するパターン画像比較方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F1/08 S
, G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
2H095BB01
, 2H095BB36
, 2H095BD03
