特許
J-GLOBAL ID:200903062799226074
コールドスプレー技術用ノズルおよびコールドスプレーシステム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
橋本 剛
, 富岡 潔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-048890
公開番号(公開出願番号):特開2004-298863
出願日: 2004年02月25日
公開日(公表日): 2004年10月28日
要約:
【課題】金属粉末によるノズル4への付着やノズル詰まりを減らすことにより、コールドスプレーシステムの故障をなくしかつノズル補修が不要となるようにする。【解決手段】本発明はコールドスプレー技術用のノズル4に関する。ノズル4は、縮小部100と拡大部102とを備えた粉末材料吹き付け用の通路を備える。少なくとも拡大部102はポリベンゾイミダゾールからなる。ノズル4の1つの態様として、縮小部100もまたポリベンゾイミダゾールからなる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
縮小部と拡大部とを備えた粉末材料吹き付け用の通路を備え、かつ、
少なくとも上記拡大部がポリベンゾイミダゾールからなることを特徴とするコールドスプレー技術用ノズル。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (15件):
4F033QA01
, 4F033QB02X
, 4F033QB05
, 4F033QB13Y
, 4F033QB19
, 4F033QC07
, 4F033QD02
, 4F033QD11
, 4F033QD14
, 4F033QE09
, 4F033QE28
, 4K044BA10
, 4K044CA23
, 4K044CA51
, 4K044CA71
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
-
微粒化ノズル
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-066307
出願人:間藤公利
-
超音波洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-050520
出願人:芝浦メカトロニクス株式会社
-
プリンタ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-133670
出願人:ソニー株式会社
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