特許
J-GLOBAL ID:200903062913940149

マグネシウム合金の接合性の向上法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-052043
公開番号(公開出願番号):特開2004-255453
出願日: 2003年02月27日
公開日(公表日): 2004年09月16日
要約:
【課題】本発明の目的は,マグネシウム合金の表面に緻密な薄い皮膜を形成させることによって、その固相接合性やろう接性を向上させる事を目的にしたマグネシウム合金の表面処理法を提供することにある。【解決手段】従来法で表面処理されたマグネシウム合金の表面には非常に厚い酸化マグネシウム皮膜が形成されて、その接合性が極めて悪い。これはマグネシウム合金表面に形成される酸化マグネシウム皮膜の比容積(容積/質量)がマグネシウム合金母相の比容積よりも小さいためである。このためマグネシウム合金の表面に母相の比容積よりも大きな比容積を有する皮膜を形成させれば、その表面皮膜は緻密になって大気や水蒸気の侵入も起こらずに薄い表面皮膜となり、マグネシウム合金の接合性が向上する。このため、マグネシウム合金母相の比容積よりも大きい比容積を有する表面皮膜を形成させることのできる、フッ素イオン式表面処理法により、解決する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
マグネシウム合金の表面を機械研磨した後にフッ素イオンを含む溶液中に浸漬することによって薄い表面皮膜を形成させて、その接合性を向上させるマグネシウム合金の接合性の向上法。
IPC (1件):
B23K31/00
FI (1件):
B23K31/00 G
引用特許:
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る