特許
J-GLOBAL ID：200903063080187740

スパッタ装置

発明者：
安藤 謙二

安藤 謙二 について

, 
金沢 秀宏

金沢 秀宏 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-064209
公開番号（公開出願番号）：特開2004-269988
出願日： 2003年03月10日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：
【課題】従来とは異なった方法で、いろいろな形状の基体に光学薄膜を均質且つ高精度に所望の膜厚分布を得ることにある。【解決手段】本発明は、凹凸又は平面形状を有する基板に物理的気相成長にて膜を成膜するスパッタ装置に於いて、成膜中に基板とカソードの相対位置関係等を独立に可変出来る制御軸が3軸以上有することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
凹凸又は平面形状を有する基板に物理的気相成長にて膜を成膜するスパッタ装置に於いて、成膜中に基板とカソードの相対位置関係等を独立に可変出来る制御軸が3軸以上有することを特徴とするスパッタ装置。
IPC (3件)：
C23C14/34 ,  G02B1/11 ,  G02B5/10
FI (4件)：
C23C14/34 C ,  C23C14/34 T ,  G02B5/10 C ,  G02B1/10 A
Fターム (8件)：
2H042DC02 ,  2H042DD05 ,  2H042DE00 ,  2K009AA01 ,  2K009DD04 ,  2K009DD09 ,  4K029CA05 ,  4K029EA01
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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