特許
J-GLOBAL ID：200903063101348706
吐出ノズル式塗布法用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-082458
公開番号（公開出願番号）：特開2005-004172
出願日： 2004年03月22日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：
【課題】吐出ノズル式によるレジスト塗布法に好適に用いることができるポジ型ホトレジスト組成物を提供する。【解決手段】吐出ノズルと基板とを相対的に移動させることによって基板の塗布面全面にポジ型ホトレジスト組成物を塗布する工程を有する吐出ノズル式塗布法に用いられるポジ型ホトレジスト組成物であって、(A)アルカリ可溶性ノボラック樹脂、(C)ナフトキノンジアジド基含有化合物、(D)有機溶剤、および(E)界面活性剤を含有してなり、前記(E)界面活性剤の含有量が900ppm以下であることを特徴とする吐出ノズル式塗布法用ポジ型ホトレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
吐出ノズルと基板とを相対的に移動させることによって基板の塗布面全面にポジ型ホトレジスト組成物を塗布する工程を有する吐出ノズル式塗布法に用いられるポジ型ホトレジスト組成物であって、(A)アルカリ可溶性ノボラック樹脂、(C)ナフトキノンジアジド基含有化合物、および(D)有機溶剤を含有してなり、(E)界面活性剤の含有量が0〜900ppmであることを特徴とする吐出ノズル式塗布法用ポジ型ホトレジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F7/004
, B05D1/26
, B05D1/40
, G03F7/023
, G03F7/16
, H01L21/027
G03F7/004 504
, B05D1/26 Z
, B05D1/40 A
, G03F7/023 511
, G03F7/16 501
, G03F7/16 502
, H01L21/30 564C
2H025AA18
, 2H025AB14
, 2H025AB20
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BE01
, 2H025CB29
, 2H025CB41
, 2H025CB55
, 2H025CC03
, 2H025CC04
, 2H025CC20
, 2H025DA19
, 2H025EA04
, 2H025EA05
, 4D075AC08
, 4D075AC64
, 4D075CA48
, 4D075DA06
, 4D075DB13
, 4D075DC24
, 4D075EA07
, 4D075EB32
, 4D075EB52
, 4D075EB56
, 4D075EC07
, 4D075EC30
, 4D075EC35
, 4D075EC52
, 4D075EC54
, 5F046JA01
, 5F046JA16
, 5F046JA21
